武汉大方机电有限公司彭定军获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉大方机电有限公司申请的专利一种可均布水膜的挡圈结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223375769U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422638327.3，技术领域涉及：F22D1/50；该实用新型一种可均布水膜的挡圈结构是由彭定军设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可均布水膜的挡圈结构在说明书摘要公布了：一种可均布水膜的挡圈结构，涉及除氧器领域，包括挡圈主体，所述挡圈主体至少由三个集水环和与集水环相同数量的挡环组成，相邻的集水环和挡环构成一个布水单元，所述集水环内壁所在空间的下端呈封闭结构，构成集水腔，所述集水环外壁与挡环内壁之间空间的下端呈开口结构，构成布水腔，所述集水环环体的下端设置有环形分布的排水孔，所述挡圈主体的外部设有除氧器内壁，且挡圈主体与除氧器内壁通过旋转机构连接，所述挡圈主体的中心位置处设置有旋转柱，旋转柱与挡圈主体焊接固定，解决了水体经过初步除氧后随重力下落难以在液汽网上均匀分布的问题。
本实用新型一种可均布水膜的挡圈结构在权利要求书中公布了：1.一种可均布水膜的挡圈结构，包括挡圈主体1，其特征在于：所述挡圈主体1至少由三个集水环2和与集水环2相同数量的挡环3组成，相邻的集水环2和挡环3构成一个布水单元，所述集水环2内壁所在空间的下端呈封闭结构，构成集水腔7，所述集水环2外壁与挡环3内壁之间空间的下端呈开口结构，构成布水腔8，所述集水环2环体的下端设置有环形分布的排水孔6，所述挡圈主体1的外部设有除氧器内壁17，且挡圈主体1与除氧器内壁17通过旋转机构连接，所述挡圈主体1的中心位置处设置有旋转柱5，旋转柱5与挡圈主体1焊接固定。
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