华南理工大学高岩获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119465155B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411471742.2，技术领域涉及：C23F1/28；该发明授权一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法是由高岩;赵映霞设计研发完成，并于2024-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法。该方法首先通过光刻技术在NAK80模具钢表面加工出光刻胶掩膜图案，然后通过调控湿法刻蚀液的成分和刻蚀时间，得到具有近金字塔型周期阵列微米结构的NAK80微模具。该微模具可用于塑料产品的微压印加工，在塑料表面构建与模具互补的倒金字塔框架结构。现有技术中这种金字塔形周期阵列结构一般通过光刻蚀硅模板制作，但单晶硅造价高，且质地很脆，机械稳定性不好。本发明专利的优点在于，通过光刻蚀制备的NAK80微模具不仅具备类似硅片湿法刻蚀得到的金字塔型阵列微结构，而且价格便宜，且机械稳定性高；同时湿法刻蚀步骤简单，刻蚀效率高，可批量加工。
本发明授权一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法在权利要求书中公布了：1.一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤： S100光刻掩膜图案设计：设计周期排列的正方形图案作为光刻掩膜图案； S200光刻法制备光刻胶掩膜：通过光刻法在NAK80钢片表面制备出预先设计的光刻胶图案，作为掩膜； S300湿法刻蚀：将覆有方形光刻胶掩膜的NAK80浸入1wt.%FeCl3+1wt.%HNO3刻蚀液中，蚀刻25~30min，得到覆盖光刻胶掩膜金字塔型阵列微米结构的NAK80； S400去除光刻胶掩膜：将湿法蚀刻后的NAK80从刻蚀液中取出，用去离子水冲洗，然后在丙酮溶液中超声处理7min，去除光刻胶，即得到具有金字塔型周期阵列微米结构的NAK80微模具； S500压印塑料：采用光刻蚀制备的NAK80微模具对聚丙烯（PP）塑料进行热压印，在塑料表面压制出于与模具互补的倒金字塔框架结构。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华南理工大学，其通讯地址为：510640 广东省广州市天河区五山路381号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励