上海岫美环境科技有限公司谷殿强获国家专利权
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龙图腾网获悉上海岫美环境科技有限公司申请的专利一种防止污泥沉降的沉淀池推流区结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223372872U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422496241.1，技术领域涉及：C02F1/52；该实用新型一种防止污泥沉降的沉淀池推流区结构是由谷殿强;王兴华设计研发完成，并于2024-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种防止污泥沉降的沉淀池推流区结构在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种防止污泥沉降的沉淀池推流区结构，它涉及沉淀池技术领域。包括推流区，所述的推流区包括第一挡墙、第二挡墙和第三挡墙，第一挡墙由沉淀池顶部向下延伸，第二挡墙由沉淀池底部向上延伸，第一挡墙的底部低于第二挡墙的顶部设置，第三挡墙由沉淀池顶部向下延伸，第三挡墙的底部高于第二挡墙的顶部，第一挡墙和第二挡墙之间、第二挡墙和第三挡墙之间均形成有过水间隙，且第二挡墙靠近絮凝区设置。本实用新型结构设计合理，能够防止污泥提前沉降在推流区，且可缩小推流区占地面积或是增大沉淀澄清区面积，降低成本，达到更好的沉淀效果。
本实用新型一种防止污泥沉降的沉淀池推流区结构在权利要求书中公布了：1.一种防止污泥沉降的沉淀池推流区结构，其特征在于，包括推流区C，所述的推流区C包括第一挡墙1、第二挡墙2和第三挡墙3，第一挡墙1由沉淀池顶部向下延伸，第二挡墙2由沉淀池底部向上延伸，第一挡墙1的底部低于第二挡墙2的顶部设置，第三挡墙3由沉淀池顶部向下延伸，第三挡墙3的底部高于第二挡墙2的顶部，第一挡墙1和第二挡墙2之间、第二挡墙2和第三挡墙3之间均形成有过水间隙，且第二挡墙2靠近絮凝区B设置。
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