苏州镓耀半导体科技有限公司张义颖获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州镓耀半导体科技有限公司申请的专利一种化学气相沉积高温高真空反应室装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223373217U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422427841.2，技术领域涉及：C23C16/44；该实用新型一种化学气相沉积高温高真空反应室装置是由张义颖;雍晓龙;何奇设计研发完成，并于2024-10-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学气相沉积高温高真空反应室装置在说明书摘要公布了：本申请公开了一种化学气相沉积高温高真空反应室装置，壳体组件、上密封盖及下密封盖围成反应室，壳体组件包括外壳、中间壳及内壳，外壳、中间壳、内壳相间设置，壳体组件为三层嵌套结构，最内层的内壳作为直接反应腔与工艺气体直接接触，可轻松拆卸更换及维修，无需拆卸中间壳及外壳，反应室装置维护简便高效；中间壳与内壳之间设有绝缘夹层，绝缘夹层可隔绝内壳与冷却的中间壳接触，防止反应中的气体附着或沉积在内壳的管壁上，减少了内壳的沉积量，减少了反应室装置的更换维修；外壳、中间壳及内壳高度依次变高，方便内壳取出，具有较高的操作效率。
本实用新型一种化学气相沉积高温高真空反应室装置在权利要求书中公布了：1.一种化学气相沉积高温高真空反应室装置，包括反应室1，所述反应室1四周设有壳体组件，所述壳体组件上下密封设有上密封盖2及下密封盖3，所述壳体组件、上密封盖2及下密封盖3围成所述反应室1，其特征在于：所述壳体组件包括外壳4、中间壳5及内壳6，所述外壳4、中间壳5、内壳6相间设置； 所述外壳4与中间壳5之间设有冷却夹层7，所述冷却夹层7连通设有冷却进口9及冷却出口10。
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