上海映智研磨材料有限公司;衢州博来纳润电子材料有限公司孟一鸣获国家专利权
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龙图腾网获悉上海映智研磨材料有限公司;衢州博来纳润电子材料有限公司申请的专利一种耐化学氧化抛光垫及其制备方法和用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118930802B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411156349.4，技术领域涉及：C08G18/66；该发明授权一种耐化学氧化抛光垫及其制备方法和用途是由孟一鸣;王晨设计研发完成，并于2024-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种耐化学氧化抛光垫及其制备方法和用途在说明书摘要公布了：本发明提供一种耐化学氧化抛光垫及其制备方法和用途，所述耐化学氧化抛光垫包括如下原料组分：聚氨酯预聚体、双酚A环氧酚醛共聚物、扩链剂和发泡剂。本发明提供的耐化学氧化抛光垫不仅提高了抛光速率和使用寿命，且制备方法简单，产品稳定性高，适合大规模工业化生产。
本发明授权一种耐化学氧化抛光垫及其制备方法和用途在权利要求书中公布了：1.一种耐化学氧化抛光垫，其特征在于，包括如下原料组分：聚氨酯预聚体、双酚A环氧酚醛共聚物、扩链剂和发泡剂； 包括如下重量份的原料组分： 聚氨酯预聚体90~110份 双酚A环氧酚醛共聚物2.5~15份 扩链剂30~70份 发泡剂0.05~2份； 所述聚氨酯预聚体的邵氏硬度为73-75HD； 所述聚氨酯预聚体中异氰酸酯基的含量为9.4~9.7wt%； 所述原料组分还包括聚醚二元醇； 所述聚醚二元醇为聚四氢呋喃醚二醇； 所述聚醚二元醇的用量为10~30份。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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