湖南普照信息材料有限公司李翼获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南普照信息材料有限公司申请的专利一种光掩模基板及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118707799B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410995490.7，技术领域涉及：G03F1/00；该发明授权一种光掩模基板及其制备方法是由李翼;李伟;徐根设计研发完成，并于2024-07-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光掩模基板及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光掩模基板及其制备方法，其中，所述光掩模基板包括：玻璃基底、铬膜层以及光刻胶层，其中，所述玻璃基底与镀铬膜层间具有二氧化硅过渡层。本发明所述的技术方案能够显著改善光掩模基板的粘附力，有效减少制程中线条缺失等缺陷，大幅提高产品质量和使用寿命，降低生产成本，特别是在高精度半导体应用领域效果尤佳，具有良好的可操作性和可重复性。
本发明授权一种光掩模基板及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光掩模基板，其特征在于，所述光掩模基板包括：玻璃基底、铬膜层以及光刻胶层，其中，所述玻璃基底与镀铬膜层间具有二氧化硅过渡层；所述二氧化硅过渡层的微观组织包括第一二氧化硅粒子以及位于所述第一二氧化硅粒子空隙之间的第二二氧化硅粒子，其中，所述第一二氧化硅粒子的粒径大小为50～60nm，所述第二二氧化硅粒子的粒径为10～15nm，所述铬膜层为五层结构，在二氧化硅过渡层堆叠得到镀膜片，后进行烘烤、烘烤后空冷、进行旋转涂胶、进行前烘处理得到光掩模基板。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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