合肥工业大学刘东光获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥工业大学申请的专利一种高导电耐腐蚀复合涂层及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118835210B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410886884.9,技术领域涉及:C23C14/35;该发明授权一种高导电耐腐蚀复合涂层及其制备方法是由刘东光;李泽群;刘慧;夏正卫;罗来马设计研发完成,并于2024-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高导电耐腐蚀复合涂层及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种高导电耐腐蚀复合涂层及制备方法,制备方法包括:对金属基体表面进行前处理,然后装夹在镀膜机真空腔室内,在真空状态下烘烤排气,离子束清洗后再进行渗氮处理在金属基体表面形成厚度为0.1‑1μm的渗氮层;再依次沉积纯金属和上述金属的氮化物形成总厚度为0.02‑0.5μm的打底层;再依次沉积两种金属和上述两种金属的氮化物构成总厚度为0.02‑1.5μm的中间层;再沉积厚度为0.03‑1μm的金属掺杂的TAC层得到总厚度为0.17‑3.5μm的复合涂层。本发明采用元素掺杂改性和多层复合结构,提高涂层致密性的同时,发挥出金属氮化物与非晶碳层的优异性能,使得到的涂层厚度薄、耐腐蚀性和导电性好。
本发明授权一种高导电耐腐蚀复合涂层及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种高导电耐腐蚀复合涂层的制备方法,其特征在于:包括以下步骤: S1、对金属基体表面进行前处理,然后装夹在镀膜机真空腔室内,在真空状态下进行烘烤排气; S2、对烘烤排气后的金属基体进行离子束清洗; S3、采用直流耦合交流阴极转架技术对离子束清洗后的金属基体进行渗氮处理在金属基体表面形成渗氮层;其中,所述渗氮层的厚度为0.1-1μm; S4、在经S3处理后的金属基体表面依次沉积纯金属和上述金属的氮化物形成打底层;其中,所述打底层的总厚度为0.02-0.5μm;所述纯金属包括一种金属或两种金属;所述一种金属为Ti、Cr、Nb、Zr、Ta中的一种;两种金属为Ni和Cr、Al和Cr中的一种;所述金属的氮化物为TiN、CrN、NbN、ZrN、TaN、NiCrN、AlCrN中的一种; S5、在S4中形成的打底层表面依次沉积两种金属和上述两种金属的氮化物构成中间层;其中,所述中间层的总厚度为0.02-1.5μm;沉积的两种金属为Cr和Mo、Zr和Mo中的一种;金属的氮化物为CrMoN、ZrMoN中的一种; S6、在S5中形成的中间层表面沉积金属掺杂的TAC层得到所述高导电耐腐蚀复合涂层,其中,所述金属掺杂的TAC层的厚度为0.03-1μm,得到的复合涂层的总厚度为0.17-3.5μm;掺杂的金属为Ti、Cr、Zr中的一种或多种。
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