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龙图腾网获悉上海航天电子通讯设备研究所申请的专利一种介质填充高选择性波导滤波器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116454576B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310612990.3，技术领域涉及：H01P1/212；该发明授权一种介质填充高选择性波导滤波器是由谢雅;汤之仪;高翔;赵毅;马军伟;陈凯;孙斌;涂振斌;程隽隽设计研发完成，并于2023-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种介质填充高选择性波导滤波器在说明书摘要公布了：本发明公开一种介质填充高选择性波导滤波器，该滤波器在一个介质壳体表面镀银实现金属化，耦合膜片沿介质壳体宽边方向设置，耦合膜片将介质壳体内的空间划分为左、右对称的第一谐振器和第二谐振器，两者构成双模谐振器。若干金属盲孔均匀设置于第一谐振器和第二谐振器中。金属盲孔用于对双模谐振器进行激励或对两个工作模式的谐振频率进行调谐。耦合膜片用于控制第一谐振器与第二谐振器进行腔间耦合。本发明可实现对TE102模和TE201模的谐振频率进行控制，采用双模谐振器，体积约减小约30％，具有小型化的优点。耦合探针金属盲孔可激励TE101模，通过耦合膜片耦合，实现源负载耦合结构，提高滤波器的带外抑制度。耦合膜片采用三段式结构，成品率高，实用性强。

本发明授权一种介质填充高选择性波导滤波器在权利要求书中公布了：1.一种介质填充高选择性波导滤波器，其特征在于，包括： 表面镀银的介质壳体，以及设于所述介质壳体内的若干金属盲孔、双模谐振器、耦合膜片； 所述耦合膜片沿所述介质壳体宽边方向设置，所述耦合膜片将所述介质壳体内的空间划分为左、右对称的第一谐振器和第二谐振器，所述第一谐振器和所述第二谐振器构成所述双模谐振器；若干所述金属盲孔均匀设置于所述第一谐振器和所述第二谐振器中； 其中，所述金属盲孔用于对所述双模谐振器进行激励或对所述第一谐振器或所述第二谐振器中的两个工作模式的谐振频率进行调谐；所述耦合膜片用于控制所述第一谐振器与所述第二谐振器进行腔间耦合； 其中，所述耦合膜片为所述第一谐振器与所述第二谐振器之间相连接的空间，与所述双模谐振器的宽边方向相平行，包括第一耦合段、第二耦合段和第三耦合段； 所述第一耦合段与所述第三耦合段沿所述双模谐振器的长边方向中线对称设置；所述第二耦合段位于所述第一耦合段和所述第三耦合段中间； 以所述第二耦合段的长度控制所述第一谐振器与所述第二谐振器之间的直接耦合，以所述第二耦合段向所述第一耦合段或所述第三耦合段的偏移量控制所述第一谐振器与所述第二谐振器之间的交叉耦合。

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