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龙图腾网获悉深圳子柒科技有限公司申请的专利一种真空等离子体处理装置及其控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118366838B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310217993.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种真空等离子体处理装置及其控制方法是由何兰玉;罗富峰;赖福业;汪太年设计研发完成，并于2023-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种真空等离子体处理装置及其控制方法在说明书摘要公布了：本发明属于等离子表面处理技术，尤其涉及一种真空等离子体处理装置及其控制方法，所述真空等离子体处理装置包括机架，设置于机架上的真空室以及控制组件；所述真空室设置有密封门，密封门朝向真空室的一侧设置有密封条，真空室内设置有放置架以及等离子体发生组件，所述等离子体发生组件用于使通入的选定气体形成等离子体，所述等离子体发生组件包括电离组件以及供气组件；所述真空室的背面设置有真空组件，所述真空组件用于使真空室内形成真空环境；所述控制组件用于所述等离子体发生组件以及所述真空组件的工作控制。本发明设置密封门及真空组件可以得到稳定的真空环境，由电离组件及供气组件产生的配合产生等离子体对产品进行表面处理。

本发明授权一种真空等离子体处理装置及其控制方法在权利要求书中公布了：1.一种真空等离子体处理装置，其特征在于，所述真空等离子体处理装置包括机架，设置于机架上的真空室以及控制组件； 所述真空室设置有密封门，密封门朝向真空室的一侧设置有密封条，真空室内设置有放置架以及等离子体发生组件，所述等离子体发生组件用于使通入的选定气体形成等离子体，所述等离子体发生组件包括电离组件以及供气组件；所述真空室的背面设置有真空组件，所述真空组件用于使真空室内形成真空环境； 所述控制组件用于所述等离子体发生组件以及所述真空组件的工作控制； 所述电离组件包括设置于所述真空室背面的真空电极，所述真空电极远离所述真空室的一端连接RF射频电源，另一端与设置于所述真空室内的射频电源放电极连接； 所述电离组件还包括设置于所述真空室内的条状铜板、放电极板以及射频电源放电极； 所述条状铜板设置于真空室内壁的后侧上，呈上下布置，所述条状铜板上下等间距设置有若干L形连接件，L形连接件的一端搭接在所述条状铜板上，另一端搭接在所述放电极板上； 所述放电极板设置有若干块，上下等间距横向布置在所述真空室内，每块所述放电极板上均设置有一块产品放置板； 所述射频电源穿过所述条状铜板的中部伸入所述真空室内。

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