东京毅力科创株式会社李威获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利流量测量方法和基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114719918B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111500125.7，技术领域涉及：G01F1/76；该发明授权流量测量方法和基片处理装置是由李威;阿部纯一设计研发完成，并于2021-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本流量测量方法和基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种流量测量方法和基片处理装置，其能够利用分支气体配管进行分流，并高精度地测量流到处理室内的分支后的气体的流量。流量测量方法在基片处理装置中测量气体的流量，上述基片处理装置包括：供给气体的气体供给配管；从上述气体供给配管分支的多个分支气体配管；与上述多个分支气体配管连通的金属窗；和喷淋头，其配置在上述金属窗的底部，具有使上述气体从上述金属窗通过的气体排出孔，上述流量测量方法包括：在与多个上述分支气体配管连通的上述金属窗的供给口配置流量计，用上述流量计来测量流过上述金属窗的供给口的气体的流量的步骤。
本发明授权流量测量方法和基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种在基片处理装置中测量气体的流量的流量测量方法，其特征在于， 所述基片处理装置包括： 供给气体的气体供给配管； 从所述气体供给配管分支的多个分支气体配管； 与所述多个分支气体配管连通且具有供给口的金属窗，所述金属窗的供给口为所述分支气体配管与形成于所述金属窗内的扩散室连通的部分；和 喷淋头，其为所述扩散室的底部，与所述金属窗一起形成所述扩散室，具有使来自所述扩散室的所述气体通过的气体排出孔， 所述流量测量方法包括：在大气环境下，在多个所述金属窗的供给口配置流量计，用所述流量计来测量流过所述金属窗的供给口的气体的流量的步骤。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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