株式会社指月电机制作所;株式会社村田制作所小笹千一获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社指月电机制作所;株式会社村田制作所申请的专利薄膜电容器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116195008B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180064611.0，技术领域涉及：H01G4/32；该发明授权薄膜电容器是由小笹千一;市川智道设计研发完成，并于2021-09-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本薄膜电容器在说明书摘要公布了：本发明提供一种即使在高温的使用环境中长时间被施加了电压，作为电极的金属层也不易氧化的薄膜电容器。薄膜电容器10具备包含热固化性氨基甲酸酯树脂的电介质树脂薄膜13、14、和设置在上述电介质树脂薄膜13、14的至少一个面的金属层15、16，上述电介质树脂薄膜13、14至少包含异氰酸酯基以及羰基，波数：2200cm‑1以上且2350cm‑1以下的范围内检测出的上述异氰酸酯基的吸收峰值强度相对于波数：1650cm‑1以上且1800cm‑1以下的范围内检测出的上述羰基的吸收峰值强度之比异氰酸酯基的吸收峰值强度羰基的吸收峰值强度为0.08以上且1.15以下。
本发明授权薄膜电容器在权利要求书中公布了：1.一种薄膜电容器，具备： 电介质树脂薄膜，包含热固化性氨基甲酸酯树脂；和 金属层，设置在所述电介质树脂薄膜的至少一个面， 所述电介质树脂薄膜至少包含异氰酸酯基以及羰基， 波数：2200cm-1以上且2350cm-1以下的范围内检测出的所述异氰酸酯基的吸收峰值强度相对于波数：1650cm-1以上且1800cm-1以下的范围内检测出的所述羰基的吸收峰值强度之比、即异氰酸酯基的吸收峰值强度羰基的吸收峰值强度为0.08以上且1.15以下。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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