细美事有限公司林俊铉获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利后喷嘴单元及包括后喷嘴单元的基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695171B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110879710.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权后喷嘴单元及包括后喷嘴单元的基板处理装置是由林俊铉;全伦奭;宋吉勋;姜准基设计研发完成，并于2021-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本后喷嘴单元及包括后喷嘴单元的基板处理装置在说明书摘要公布了：基板处理装置可具有包括对基板执行所需工程的至少一个工程腔室的处理模块及将所述基板从外部移送到所述处理模块的转位模块。所述至少一个工程腔室可包括上部被放置基板的支撑单元及配置在所述基板的底面下方的后喷嘴单元。所述后喷嘴单元可包括裙座、向所述基板的底面上供应清洗液的至少一个后喷嘴及向所述基板的底面上供应气体的气体喷嘴。所述裙座可包括本体及形成于所述本体内且向所述基板的底面供应气体的多个第一流道及多个第二流道。
本发明授权后喷嘴单元及包括后喷嘴单元的基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种后喷嘴单元，其特征在于，包括： 裙座，配置在基板的底面的下方； 至少一个后喷嘴，从所述裙座凸出，并且向所述基板的底面上供应清洗液；以及 气体喷嘴，从所述裙座凸出，向所述基板的底面上供应气体， 其中，所述裙座具有： 本体； 多个第一流道，形成于所述本体内且沿与所述基板的底面平行的方向供应气体；以及 多个第二流道，形成于所述本体内且以预定的倾斜角度向所述基板的底面上供应所述气体， 所述多个第一流道分别在所述本体内向上方形成，在所述本体内向下方弯折，向相对于所述基板的底面平行的方向延伸， 所述多个第一流道和多个第二流道在所述至少一个后喷嘴向所述基板的底面上供应所述清洗液期间和或向所述基板的底面上供应所述清洗液后供应所述气体，使得沿着所述裙座的所述本体的表面流下来的所述清洗液重新向所述基板的底面供应。
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