美商新思科技有限公司T·C·塞西尔获国家专利权
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龙图腾网获悉美商新思科技有限公司申请的专利对用于电子电路的曲线掩模的掩模规则检查获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114008620B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080041678.8，技术领域涉及：G06F30/398；该发明授权对用于电子电路的曲线掩模的掩模规则检查是由T·C·塞西尔设计研发完成，并于2020-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本对用于电子电路的曲线掩模的掩模规则检查在说明书摘要公布了：一种系统，用于对曲线形状执行掩模规则检查MRC。曲线形状的宽度沿着形状的不同部分不同。曲线形状的中轴线被确定。中轴线被修整以排除距拐角阈值距离内或距边缘太远的部分。经修整中轴线用于执行掩模规则的宽度检查。系统生成几何形状之间的中轴线，并且使用中轴线来确定两个几何形状是否至少相隔阈值距离。系统对尖拐角执行锐角检查。系统使用从顶点到形状的边界上的端点绘制的线来确定角度，这些端点在阈值距离处。这些角度用于检查锐角掩模规则违反。
本发明授权对用于电子电路的曲线掩模的掩模规则检查在权利要求书中公布了：1.一种用于对设计电子电路的掩模表示执行掩模规则检查的方法，所述方法包括： 接收所述电子电路的所述掩模表示，所述掩模表示包括多个几何形状；以及 对于所述掩模表示的所述多个几何形状中的几何形状： 确定所述几何形状的中轴线； 标识所述中轴线的、距所述几何形状的拐角在阈值距离内的部分； 通过排除距所述几何形状的所述拐角在所述阈值距离内的所述中轴线的部分，来修整所述中轴线；以及 基于所述几何形状的对应于所述几何形状的经修整中轴线的部分，由处理设备执行所述掩模规则检查，其中所述掩模规则检查标识由所述掩模表示对掩模规则的违反。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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