季华实验室戴深宇获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利贝塞尔光束可调聚焦位置方法及其装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120577939B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511081331.7,技术领域涉及:G02B7/28;该发明授权贝塞尔光束可调聚焦位置方法及其装置是由戴深宇;钟志成;郑昕;董雷岗;曹艳波设计研发完成,并于2025-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本贝塞尔光束可调聚焦位置方法及其装置在说明书摘要公布了:本发明公开了一种贝塞尔光束可调聚焦位置方法及其装置,涉及光学技术领域,贝塞尔光束可调聚焦位置方法包括:获取所述振幅滤波片上调节圆环的半径;获取所述聚焦透镜的焦距;获取所述第一衍射光学元件和所述第二衍射光学元件的角度差;根据所述角度差调整所述光学系统的离焦值;本发明的技术方案通过采用仅对第一衍射光学元件和第二衍射光学元件调节,实现了光学系统对贝塞尔光束聚焦位置的快速、高精度、连续动态调节。且调节过程不改变贝塞尔光束的焦深,因此不会影响调节前后光束的纵向相对空间分布。
本发明授权贝塞尔光束可调聚焦位置方法及其装置在权利要求书中公布了:1.一种贝塞尔光束可调聚焦位置方法,其特征在于,所述贝塞尔光束可调聚焦位置方法应用于光学系统,所述光学系统包括沿光轴方向依次设置的振幅滤波片、光栅及聚焦透镜,所述光栅包括相对设置的第一衍射光学元件和第二衍射光学元件,所述贝塞尔光束可调聚焦位置方法包括: 获取所述振幅滤波片上调节圆环的半径; 获取所述聚焦透镜的焦距; 获取所述第一衍射光学元件和所述第二衍射光学元件的角度差; 根据所述角度差调整所述光学系统的离焦值; 所述角度差、所述焦距、所述圆环半径以及所述离焦值满足以下关系: ; 其中,Δf为所述离焦值,f为所述焦距,θ为所述角度差,λ为进入所述光学系统中的激光的波长,D为所述圆环半径,K为常数系数。
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