昆山国力电子有限公司林家伟获国家专利权
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龙图腾网获悉昆山国力电子有限公司申请的专利一种微波谐振腔场均匀性的测量方法及测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119779128B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411964833.X，技术领域涉及：G01B7/00；该发明授权一种微波谐振腔场均匀性的测量方法及测量装置是由林家伟;王少哲;刘骏嵩;张春潮;张金贵;李永明;高斌设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种微波谐振腔场均匀性的测量方法及测量装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种微波谐振腔场均匀性的测量方法及测量装置，根据非谐振微扰理论，微扰前和微扰后，空间中相应位置处的电磁场会发生改变，这种改变会反应到电磁场的反射系数S11，而S11又是一个能够通过矢量网络分析仪探测到的量。因此，我们可以通过使用矢量网络分析仪测量微扰前后电磁场的S11值，来判断电磁场变化了多少，进而得出ΔS11值，根据ΔS11的一致性来判断待测器件的加工精度。
本发明授权一种微波谐振腔场均匀性的测量方法及测量装置在权利要求书中公布了：1.一种微波谐振腔场均匀性的测量方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1、根据待测谐振腔大小选择合适的微扰体，待测谐振腔由多个束流通道组成，且所述束流通道由鼻锥孔、鼻锥间隙和漂移管构成； 步骤2、启动矢量网络分析仪并进行微波校准，矢量网络分析仪通过测试连接线与探针相连接，并将探针通过探针工装放置于待测谐振腔的鼻锥孔内； 步骤3、通过矢量网络分析仪读取在未放入微扰体时待测谐振腔的工作频率下的微扰前的反射系数； 步骤4、将微扰体及微扰体工装放入待测谐振腔的鼻锥间隙内，通过矢量网络分析仪读取放入微扰体时待测谐振腔的工作频率下的微扰后的反射系数； 步骤5、微扰前和微扰后，空间中相应位置处的电磁场会发生改变，这种改变会反应到电磁场的反射系数值； 通过对比步骤3中微扰前的反射系数和步骤4中微扰后的反射系数得到微扰前后电磁场反射系数的差值Δ，来判断电磁场的变化； 步骤6、当多个Δ的一致性均大于95%时，判定待测谐振腔加工符合要求；当其中一个Δ的一致性小于95%时，判定待测谐振腔加工不符合要求。
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