武汉国创科光电装备有限公司崔海鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉国创科光电装备有限公司申请的专利一种打印高度可控的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119329191B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411710163.9,技术领域涉及:B41J2/16;该发明授权一种打印高度可控的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头是由崔海鹏;邓晓雷;唐伟;曹万胜设计研发完成,并于2024-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种打印高度可控的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头在说明书摘要公布了:本申请涉及一种打印高度可控的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头,包括在玻璃基底的底面加工喷孔和接线孔;在玻璃基底的底面开设下沉环槽形成喷射凸台;在玻璃基底上成型种子层,并分割成电镀区和非电镀区;在电镀区成型第一导电层形成导电环;图案化成型第二导电层,第二导电层的电极环分别环绕于喷射凸台的外侧,第二导电层的引线将电极环与多个导电环的底部电连接;在第二导电层的表面覆盖保护层。利用本申请中的加工工艺成型的电流体喷头,其喷射凸台外侧的电极环不易被污染,且通过加工接线孔和导电环,使得可在玻璃基底的顶面连接柔性电路板,而去除玻璃基底底面的占用结构,即可去除对打印高度调节的干涉,保证打印加工正常运行。
本发明授权一种打印高度可控的电流体喷头的加工工艺及电流体喷头在权利要求书中公布了:1.一种打印高度可控的电流体喷头的加工工艺,其特征在于,包括以下步骤: 获取玻璃基底; 在玻璃基底的底面加工阵列喷孔和与每个喷孔一一对应的接线孔; 在玻璃基底的底面,在每个喷孔的周围均开设下沉环槽,以形成多个喷射凸台; 在玻璃基底上成型种子层,种子层附着于玻璃基底的表面以及全部喷孔和全部接线孔的孔壁,分割种子层以在玻璃基底的顶面和底面均形成电镀区和非电镀区,全部喷孔位于非电镀区,全部接线孔位于电镀区; 在电镀区成型第一导电层,去除多余第一导电层,保留接线孔内壁以及接线孔的孔口周围处的第一导电层,形成导电环; 图案化成型第二导电层,第二导电层包括多个电极环以及多个引线,多个电极环分别环绕于多个喷射凸台的外侧,多个引线分别将多个电极环与多个导电环的底部电连接,多个导电环的顶部供外部柔性电路板连接; 在第二导电层的表面覆盖保护层; 完成电流体喷头的喷射板的加工。
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