沈阳亿沣环境科技有限公司王聪获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳亿沣环境科技有限公司申请的专利致密气压裂返排液处理装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223397603U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423244885.8，技术领域涉及：C02F9/00；该实用新型致密气压裂返排液处理装置是由王聪;沈欣军设计研发完成，并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本致密气压裂返排液处理装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种致密气压裂返排液处理装置，包括一体化反应沉淀池，所述一体化反应沉淀池一侧设置有隔油池，所述隔油池与一体化反应沉淀池之间通过溢流槽相连通，所述一体化反应沉淀池顶部设置有加药管路，所述一体化反应沉淀池内设置有旋流曝气机构，本实用新型涉及致密气压裂返排液处理技术领域，将反应池与沉淀池相结合，在同一设备内完成化学反应和固液分离过程，简化工艺流程，节省空间并降低成本；通过将反应池与沉淀池集成在一起，可以减少设备占地面积，降低建设成本，同时简化操作流程，提高处理效率；这种设计使得整个处理过程更加紧凑高效，适合在有限的空间内进行大规模处理。
本实用新型致密气压裂返排液处理装置在权利要求书中公布了：1.致密气压裂返排液处理装置，其特征在于，包括一体化反应沉淀池，所述一体化反应沉淀池一侧设置有隔油池，所述隔油池与一体化反应沉淀池之间通过溢流槽相连通，所述一体化反应沉淀池顶部设置有加药管路，所述一体化反应沉淀池内设置有旋流曝气机构，所述旋流曝气机构的曝气头位于一体化反应沉淀池内部且按高低交错布置； 所述一体化反应沉淀池两侧对称设置有连续折流式介质阻挡低温等离子体反应器，所述反应器一端与一体化反应沉淀池内设置的外回流泵排液端相连通、另一端伸入到一体化反应沉淀池内； 所述一体化反应沉淀池侧部设置有多级排水口； 所述一体化反应沉淀池底部设置有污泥斗以及排泥管道。
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