沈阳芯源微电子设备股份有限公司王超群获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种涂胶显影设备及晶圆加工系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223401138U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-30发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423028670.2，技术领域涉及：G03F7/16；该实用新型一种涂胶显影设备及晶圆加工系统是由王超群;张建;陈兴隆设计研发完成，并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种涂胶显影设备及晶圆加工系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种涂胶显影设备及晶圆加工系统，其中所述涂胶显影设备与包括：涂胶显影工艺模块，用于对晶圆正面进行光刻胶涂布工艺处理，以及用于对经过光刻工艺处理后的所述晶圆进行显影工艺处理；还包括接口模块，与所述涂胶显影工艺模块连接，所述接口模块包括覆膜单元；所述覆膜单元用于在所述晶圆的背面涂覆光滑膜层；通过在所述涂胶显影设备的接口模块集成所述覆膜单元，可以实现在所述晶圆的背面涂覆光滑膜层。所述光滑膜层可有效降低光刻机承载台吸附晶圆时的摩擦力，可以减小光刻机承载台的磨损，进而能大大降低光刻机的维护成本。
本实用新型一种涂胶显影设备及晶圆加工系统在权利要求书中公布了：1.一种涂胶显影设备，与光刻设备配合使用，其特征在于：包括： 涂胶显影工艺模块，用于对晶圆正面进行光刻胶涂布工艺处理，以及用于对经过光刻工艺处理后的所述晶圆进行显影工艺处理； 接口模块，与所述涂胶显影工艺模块连接，所述接口模块包括覆膜单元；所述覆膜单元用于在所述晶圆的背面涂覆光滑膜层。
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