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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理系统和边缘环的更换方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113345786B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110191972.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理系统和边缘环的更换方法是由松浦伸;加藤健一设计研发完成，并于2021-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本等离子体处理系统和边缘环的更换方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种等离子体处理系统和边缘环的更换方法。该等离子体处理系统包括等离子体处理装置、输送装置和控制装置，控制装置进行控制以执行以下步骤：将支承着边缘环的覆盖环向升降部件交接的步骤；使被支承部支承的治具在环状部件载置面与覆盖环之间移动的步骤；将治具向其他升降部件交接的步骤；支承部退避后，使升降部件和其他升降部件相对地移动，将边缘环从覆盖环向治具交接的步骤；仅使升降部件下降，将覆盖环向环状部件载置面交接的步骤；将支承着边缘环的治具从其他升降部件交接到支承部的步骤；和将支承着边缘环的治具从处理容器送出的步骤。根据本发明，能够选择性地进行被支承于覆盖环的状态下的更换和边缘环单体的更换。

本发明授权等离子体处理系统和边缘环的更换方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理系统，其特征在于，包括： 等离子体处理装置，其具有基片支承台和在内部能够设置所述基片支承台的可减压的处理容器，所述等离子体处理装置对所述基片支承台上的基片进行等离子体处理； 输送装置，其具有支承所述基片的支承部，通过使所述支承部向所述处理容器插入或抽出来使所述基片相对于所述处理容器送入送出；和控制装置，所述基片支承台具有： 载置所述基片的基片载置面； 在覆盖环支承着边缘环的状态下载置所述覆盖环的环状部件载置面，其中，所述边缘环以包围被保持于所述基片载置面的基片的方式配置，所述覆盖环覆盖所述边缘环的外侧面； 升降部件，其以能够从所述环状部件载置面中的俯视时与所述覆盖环重叠的部分伸出的方式升降； 升降机构，其能够使所述升降部件升降； 其他升降部件，其以能够从所述基片载置面伸出的方式升降；和其他升降机构，其能够使所述其他升降部件升降，所述输送装置的所述支承部构成为能够对支承着所述边缘环的所述覆盖环进行支承，且能够支承具有比所述边缘环的内径长的部分的治具，所述控制装置控制所述升降机构、所述输送装置和所述其他升降机构，以执行以下步骤： 使所述升降部件上升，将支承着所述边缘环的所述覆盖环从所述环状部件载置面向所述升降部件交接的步骤； 使被所述支承部支承的所述治具在所述基片载置面和所述环状部件载置面与支承着所述边缘环的所述覆盖环之间移动的步骤； 使所述其他升降部件上升，将所述治具从所述支承部向所述其他升降部件交接的步骤； 所述支承部退避后，使所述升降部件和所述其他升降部件相对地移动，将所述边缘环从所述覆盖环向所述治具交接的步骤； 仅使所述升降部件下降，将所述覆盖环从所述升降部件向所述环状部件载置面交接的步骤； 使所述支承部移动到所述覆盖环与支承着所述边缘环的所述治具之间后，使所述其他升降部件下降，将支承着所述边缘环的所述治具从所述其他升降部件交接到所述支承部的步骤；和将所述支承部从所述处理容器抽出，来将支承着所述边缘环的所述治具从所述处理容器送出的步骤。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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