东京毅力科创株式会社饭野正获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和导电性配管劣化程度判断方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113380662B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110228339.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片处理装置和导电性配管劣化程度判断方法是由饭野正设计研发完成，并于2021-03-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和导电性配管劣化程度判断方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够容易高精度地检测导电性配管的导电性的劣化的基片处理装置和导电性配管劣化程度判断方法。基片处理装置包括：基片保持部；喷嘴部；对喷嘴部供给处理液的导电性配管；将导电性配管与基准电位连接的接地线；设置在基片保持部的周围的液接收部，其接收从喷嘴部释放的液体；和用于测量导电性配管的导电性的劣化程度的劣化程度测量部，劣化程度测量部包括：对导电性配管供给测量用液体，从喷嘴部释放测量用液体的测量用液体供给部；对液接收部的接液面与基准电位之间施加电位差的电位差施加部；电流计，其在将测量用液体从喷嘴部释放到液接收部时，测量流过在液接收部的接液面与接地线之间经由测量用液体建立的电荷移动路径的电流值。
本发明授权基片处理装置和导电性配管劣化程度判断方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 处理基片的基片保持部； 对保持于所述基片保持部的基片释放处理液的喷嘴部； 与所述喷嘴部连接的导电性配管，其对所述喷嘴部供给处理液； 将所述导电性配管与基准电位连接的接地线； 设置在所述基片保持部的周围的液接收部，其接收从所述喷嘴部释放的液体；和劣化程度测量部，其用于测量所述导电性配管的导电性的劣化程度，所述劣化程度测量部包括： 测量用液体供给部，其对所述导电性配管供给测量用液体，使所述测量用液体从所述喷嘴部释放； 对所述液接收部的接液面与所述基准电位之间施加电位差的电位差施加部；和电流计，其在将所述测量用液体从所述喷嘴部释放到所述液接收部时，测量流过电荷移动路径的电流的电流值，其中所述电荷移动路径是在所述液接收部的接液面与所述接地线之间经由所述测量用液体而建立的。
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