日本株式会社日立高新技术科学高桥春男获国家专利权
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龙图腾网获悉日本株式会社日立高新技术科学申请的专利X射线分析装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113884524B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110629795.2，技术领域涉及：G01N23/223；该发明授权X射线分析装置是由高桥春男设计研发完成，并于2021-06-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本X射线分析装置在说明书摘要公布了：提供X射线分析装置。不需要用于将试样配置于一次X射线X1照射区域的位置调整机构和位置调整过程，利用简单的结构实现连续地测定大量小片试样的方法。荧光X射线分析装置构成为包含能够对试样照射X射线的X射线照射部、检测从试样产生的二次X射线的X射线检测部、搬送试样的试样搬送部和对检测到的X射线强度进行处理的数据处理部，使各个结构要素具有以下的功能。试样搬送部使试样移动以使试样通过X射线照射位置。X射线检测部以比试样通过X射线照射部所需要的时间短的时间间隔连续取得X射线能量谱。数据处理部根据连续取得的X射线能量谱的排列，根据X射线能量谱的特征选择试样位于所述X射线照射部的时刻的能量谱。
本发明授权X射线分析装置在权利要求书中公布了：1.一种X射线分析装置，其特征在于，所述X射线分析装置具有： X射线源，其能够对试样照射X射线； 试样搬送部，其搬送所述试样； X射线检测部，其检测从所述试样搬送部产生的二次X射线； 分析器，其按照能量来辨别从所述X射线检测部输出的信号，按照能量对射入次数进行计数，得到能量谱作为X射线强度；以及数据处理部，其通过对由所述分析器得到的能量谱中的特定元素的能量的二次X射线强度和针对所述试样搬送部的表面的材质的所述特定元素设定的二次X射线强度的阈值进行比较，判断被所述试样搬送部移动的所述试样是否正在通过所述X射线的照射位置，所述分析器以比所述试样通过X射线的所述照射位置所需要的时间短的时间间隔连续取得由所述X射线检测部检测到的二次X射线的X射线强度的能量谱。
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