武汉TCL集团工业研究院有限公司陶伟森获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉TCL集团工业研究院有限公司申请的专利一种深度图优化处理方法、智能终端及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113935903B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010669216.2,技术领域涉及:G06T5/70;该发明授权一种深度图优化处理方法、智能终端及存储介质是由陶伟森;刘阳兴;向超设计研发完成,并于2020-07-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种深度图优化处理方法、智能终端及存储介质在说明书摘要公布了:本发明公开了一种深度图优化处理方法、智能终端及存储介质,方法包括:获取原始深度图,对原始深度图进行空洞填充、初步导向滤波和初步平滑处理,得到初步深度图;对初步深度图进行边缘滤波处理,得到中间深度图;对中间深度图进行再次平滑处理和中值滤波处理,得到优化深度图。本发明通过对深度图进行两次滤波以及两次平滑处理,保证了深度边缘的完整性,避免图像虚化效果中的漏虚和误虚现象。
本发明授权一种深度图优化处理方法、智能终端及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种深度图优化处理方法,其特征在于,包括: 获取原始深度图,对所述原始深度图进行空洞填充、初步导向滤波和初步平滑处理,得到初步深度图; 对所述初步深度图进行边缘滤波处理,得到中间深度图; 对所述中间深度图进行再次平滑处理和中值滤波处理,得到优化深度图; 所述对所述初步深度图进行边缘滤波处理,得到中间深度图,包括: 确定所述初步深度图中的边缘区域掩膜; 获取所述边缘区域掩膜中的待处理像素点; 根据所述待处理像素点确定所述初步深度图对应的深度值权重,根据所述深度值权重确定滤波深度值; 根据所述滤波深度值对所述初步深度图进行边缘滤波处理,得到中间深度图; 所述根据所述待处理像素点确定所述初步深度图对应的深度值权重,根据所述深度值权重确定滤波深度值,包括: 获取所述待处理像素点的第一像素点和第二像素点,所述第一像素点为待处理点像素在初步深度图对应彩色图像的相同坐标位置的像素点,所述第一像素点与所述第二像素点之间的距离小于预设距离; 分别计算所述第一像素点与所述第二像素点之间的像素间色差和欧式距离; 根据所述像素间色差和欧式距离计算深度值权重,根据所述深度值权重确定所述滤波深度值,所述滤波深度值为所有深度值权重的和。
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