鸿利智汇集团股份有限公司刘萍萍获国家专利权
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龙图腾网获悉鸿利智汇集团股份有限公司申请的专利一种双色LED及其制作工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114220801B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111620491.6，技术领域涉及：H10H29/24；该发明授权一种双色LED及其制作工艺是由刘萍萍;尹键;林德顺;王跃飞;翁平;杨永发设计研发完成，并于2021-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双色LED及其制作工艺在说明书摘要公布了：一种双色LED及其制作工艺，包括基板、设在基板固晶区的LED芯片和围绕固晶区设置的围堰，LED芯片包括第一LED芯片和第二LED芯片；第一LED芯片的顶面出光面设有第一透明胶层和第一荧光粉层形成第一色温LED，第二LED芯片的顶面出光面设有第二荧光粉层形成第二色温LED，第一荧光粉层加第一透明胶层的高度与第二荧光粉层的高度相同；围堰内于LED芯片的侧面设有荧光胶层，荧光胶层覆盖LED芯片的侧面出光面，围堰内设有覆盖第一色温LED、第二色温LED和荧光胶层的第二透明胶层。第一荧光粉层加第一透明胶层的高度与第二荧光粉层的高度相同，使得第一色温LED与第二色温LED的光斑一致性好，且出光均匀。
本发明授权一种双色LED及其制作工艺在权利要求书中公布了：1.一种双色LED，包括基板、设在基板固晶区的LED芯片和围绕固晶区设置的围堰，所述LED芯片包括第一LED芯片和第二LED芯片；其特征在于：所述第一LED芯片的顶面出光面设有第一透明胶层和第一荧光粉层形成第一色温LED，所述第二LED芯片的顶面出光面设有第二荧光粉层形成第二色温LED，第一荧光粉层加第一透明胶层的高度与第二荧光粉层的高度相同；所述围堰内于LED芯片的侧面设有荧光胶层，所述荧光胶层覆盖LED芯片的侧面出光面，所述围堰内设有覆盖第一色温LED、第二色温LED和荧光胶层的第二透明胶层；所述第一荧光粉层的厚度为50‑70um，第二荧光粉层的厚度为70‑100um，所述荧光胶层的高度为110‑130um，第一LED芯片与第二LED芯片之间的间距为0.30‑0.35mm。
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