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龙图腾网获悉凸版印刷株式会社申请的专利光学设备以及光学设备的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114829992B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180007335.4，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权光学设备以及光学设备的制造方法是由小田由香里;川下雅史;石丸佳子;下村温纱设计研发完成，并于2021-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学设备以及光学设备的制造方法在说明书摘要公布了：光学设备具有：凹凸构造层，其在表面具有凹凸构造，该凹凸构造是以亚波长周期排列的多个凸部或多个凹部中的任一者；高折射率层，其由折射率高于所述凹凸构造层的材料构成，位于所述凹凸构造上而具有追随所述凹凸构造的形状的表面；以及低折射率层，其由折射率低于所述高折射率层的材料构成，位于所述高折射率层上。高折射率层包含位于所述凹凸构造的底部而形成第1亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于所述凹凸构造的顶部而形成第2亚波长格栅的第2格栅高折射率部。所述凹凸构造层以及所述低折射率层中的任一者具有规定的波长范围的光的吸收性，或者所述光学设备具有追加层，该追加层具有所述规定的波长范围的光的吸收性。

本发明授权光学设备以及光学设备的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光学设备，其中，所述光学设备具有： 凹凸构造层，其在表面具有凹凸构造，该凹凸构造是以亚波长周期排列的多个凸部或多个凹部中的任一者； 高折射率层，其位于所述凹凸构造上而具有追随所述凹凸构造的形状的表面，且包含位于所述凹凸构造的底部而形成第1亚波长格栅的第1格栅高折射率部、以及位于所述凹凸构造的顶部而形成第2亚波长格栅的第2格栅高折射率部，由折射率高于所述凹凸构造层的材料构成；以及低折射率层，其位于所述高折射率层上，由折射率低于所述高折射率层的材料构成，所述凹凸构造层以及所述低折射率层中的任一者具有规定的波长范围的光的吸收性，或者所述光学设备具有追加层，该追加层具有所述规定的波长范围的光的吸收性，在将所述第1格栅高折射率部的厚度设为T1、将所述第2格栅高折射率部的厚度设为T2、将所述高折射率层的材料的折射率设为n1、将所述凹凸构造层的材料的折射率设为n2、将所述低折射率层的材料的折射率设为n3、将该第1格栅高折射率部在包含所述第1格栅高折射率部且与其厚度方向相正交的剖面中占据的面积比率设为R1、将该第2格栅高折射率部在包含所述第2格栅高折射率部且与其厚度方向相正交的剖面中占据的面积比率设为R2时，n1＞n2、n1＞n3、且R1+R2＞1，由T2×{n1×R2+n3×1－R2}表示的第2参数与由T1×{n1×R1+n2×1－R1}表示的第1参数之比大于或等于0.5而小于或等于2.0。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人凸版印刷株式会社，其通讯地址为：日本东京；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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