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武汉仟目激光有限公司郭丁凯获国家专利权

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龙图腾网获悉武汉仟目激光有限公司申请的专利基于p基底的共阳极数据通信VCSEL芯片及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114937918B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210518279.7,技术领域涉及:H01S5/042;该发明授权基于p基底的共阳极数据通信VCSEL芯片及其制备方法是由郭丁凯;杨旭;蔡建新设计研发完成,并于2022-05-12向国家知识产权局提交的专利申请。

基于p基底的共阳极数据通信VCSEL芯片及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及激光器技术领域,提供了一种基于p基底的共阳极数据通信VCSEL芯片,包括p基底以及制作于所述p基底上的外延层,所述外延层远离所述p基底的面上制作有n电极和第一p电极,所述n电极和所述第一p电极由电极隔离区隔开,所述p基底远离所述外延层的面上制作有第二p电极,所述第一p电极和所述第二p电极导通。还提供一种基于p基底的共阳极数据通信VCSEL芯片的制备方法。本发明通过在p基底上制作外延层,然后做p类型和n类型金属的接触层,较传统共阴极结构,这种共阳极结构将信号的调制主要载体由空穴转为电子,从而降低总体载流子有效质量,有利于实现更高的调制带宽和调制速率。

本发明授权基于p基底的共阳极数据通信VCSEL芯片及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种基于p基底的共阳极数据通信VCSEL芯片,其特征在于:包括p基底以及制作于所述p基底上的外延层,所述外延层远离所述p基底的面上制作有n电极和第一p电极,所述n电极和所述第一p电极由电极隔离区隔开,所述p基底远离所述外延层的面上制作有第二p电极,所述第一p电极和所述第二p电极导通,所述外延层包括于所述p基底上依次生长的p‑DBR区、有源区以及n‑DBR区,所述外延层内具有依次贯穿所述p‑DBR区、有源区以及n‑DBR区的出光孔,所述出光孔的出光面开设在所述n‑DBR区上,且所述出光面设在n电极中。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人武汉仟目激光有限公司,其通讯地址为:430205 湖北省武汉市东湖新技术开发区汤逊湖北路33号华工科技园·创新基地13栋1单元1层01号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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