武汉大学栾世奕获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉大学申请的专利一种抗眩光幕布及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116125742B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310129865.7，技术领域涉及：G03B21/60；该发明授权一种抗眩光幕布及其制备方法是由栾世奕;桂成群;万辉设计研发完成，并于2023-02-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抗眩光幕布及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抗眩光幕布及其制备方法，抗眩光幕布从内至外依次包括凸反射镜阵列、金属反射层和由多层不同折射率的透明折射层构成的抗眩层，凸反射镜阵列的微米级凸起结构顶部设有用于提高散射能力的纳米微结构；本发明首先制备光刻胶母版；然后利用光刻胶母版制备凸反射镜阵列模具；之后利用凸反射镜阵列模具，采用浇注工艺一制备凸反射镜阵列；之后采用电沉积工艺在凸反射镜阵列表面沉积金属反射层；最后在金属反射层表面上采用涂覆或者沉积工艺分层制备不同折射率的折射层，形成抗眩层，完成抗眩光幕布的制备。本发明表面具有金属反射层的凸反射镜阵列具有很强的散射与增强视场角成像的能力，制备工艺简单，成本低廉，适合大规模生产。
本发明授权一种抗眩光幕布及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种抗眩光幕布，其特征在于，包括： 凸反射镜阵列，采用分体式制作或者一体成型制备在载体上，用于提高幕布视场角；所述凸反射镜均是顶部为类凸透镜的微米级凸起结构； 金属反射层，采用涂覆或者沉积的方式覆盖在凸反射镜阵列表面上，用于反射入射光线； 抗眩层，为涂覆或者沉积的方式覆盖在金属反射层表面的多层采用不同折射率材料制备的透明折射层，利用光在不同折射率界面之间反射来增加光的衰减，达到抗眩效果； 所述微米级凸起结构顶部的球面上设有用于提高散射能力的纳米微结构，所述金属反射层的厚度小于微米级凸起结构的高度，使得金属反射层跟随形成类似凸反射镜阵列和其上的纳米微结构的形状。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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