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龙图腾网获悉中国科学院上海技术物理研究所申请的专利一种集成温度监测结构的红外探测器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116314420B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310027641.5，技术领域涉及：H10F30/221；该发明授权一种集成温度监测结构的红外探测器是由王妮丽;赵水平;周青;兰添翼;汤亦聃;田启智;李向阳设计研发完成，并于2023-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种集成温度监测结构的红外探测器在说明书摘要公布了：本发明公开了一种集成温度监测结构的红外探测器，在红外材料的一侧制备红外探测器；在另一侧上制备用于温度监测的温度敏感单元。该温度敏感单元通过在红外材料上生长绝缘介质层和铬铂金属层结构，并制备电极区，将铬铂金属层的两端引出后测量电阻可以实时监测芯片的温度。本专利用于温度监测的温度敏感单元通过光刻、镀膜等技术进行制备，一致性好。这种温度敏感单元可以根据探测器结构对铬铂金属层结构进行调整，可达到准确测量红外探测器温度的效果。

本发明授权一种集成温度监测结构的红外探测器在权利要求书中公布了：1.一种集成温度监测结构的红外探测器，其特征在于： 所述的红外探测器在红外材料层2的一侧有红外探测器光敏元1，在另一侧依次有绝缘层3、铬铂金属层4和铬金金属层5组成的温度敏感单元； 所述的温度敏感单元中的铬铂金属层4是由铬铂金属来回排布绕成的矩形结构，且铬铂金属层4的两端连接有铬金金属层5形成的与外部电路连接电极； 所述的绝缘层3是厚度0.3~0.5微米的SiO2层； 所述的铬铂金属层4是通过离子束溅射方法制备而成的厚度为0.3~0.6微米，宽度为10~30微米的铬铂金属层； 所述的集成温度监测结构的红外探测器的制造方法步骤是： A、红外探测器制备完成后，利用光刻的方法，对红外探测器光敏区和电极区采用光刻胶保护； B、利用光刻及真空镀膜的方法，在红外探测器光敏区和电极区外的部分生长绝缘层3； C、利用光刻和真空镀膜的方法，在绝缘层3上先、后生长温度监测结构的铬层和铂层，形成铬铂金属层4；铬层的作用是为了增加金属接触的可靠性，铂层是温度监测结构； D、利用光刻和真空镀膜的方法在铬铂金属层4的两端生长温度监测结构的两个由铬金金属层5构成的电极，通过进行电极引出，从而可以对温度监测结构的电阻进行测试； E、对温度监测结构进行温度标定；将温度监测结构的两个电极的通过键压金丝的方法引出，测量不同温度下铂金属层的电阻，得到铂金属层的电阻的温度变化曲线，然后在红外探测器工作时，测量铂金属层的电阻与前期电阻温度曲线对照得到红外探测器的温度。

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