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龙图腾网获悉株式会社爱发科申请的专利真空处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116745458B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280011677.8，技术领域涉及：C23C14/00；该发明授权真空处理装置是由阪上弘敏;北沢僚也;矶部辰德设计研发完成，并于2022-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种在维持真空气氛的状态下能够尽量排除带入的颗粒的真空处理装置。具有真空室1、2，其设置有处理单元4，在真空室上连接真空泵15，且在真空室内安装有台架3；具备摆动机构，基板Sw与处理单元对置地被实施处理的台架的姿态为第一姿态，以实施处理时以外的台架的姿态为第二姿态，该摆动机构使台架在第一姿态与第二姿态间摆动；还具备在真空室内向台架喷射惰性气体的喷射机构5，喷射机构构成为可在第一流量和第二流量之间进行流量切换，所述第一流量能在使真空室内为规定压力的真空气氛的状态下喷飞附着在台架和基板中的至少一方上的颗粒，所述第二流量可将因喷飞而在真空室内扩散的颗粒向真空泵移送。

本发明授权真空处理装置在权利要求书中公布了：1.一种真空处理装置，其具有真空室，所述真空室设置有在真空气氛中对被处理基板实施规定的处理的处理单元，在真空室上连接对其内部进行真空排气的真空泵，且在真空室内安装有设置了被处理基板的台架，所述真空处理装置具备摆动机构，以设置在台架上的被处理基板与处理单元对置地被实施规定的处理的台架的姿态为第一姿态，以实施规定的处理时以外的台架的姿态为第二姿态，该摆动机构使台架绕旋转轴线在第一姿态与第二姿态间摆动； 所述真空处理装置的特征在于： 还具备在真空室内向台架喷射惰性气体的喷射机构，喷射机构构成为可在第一流量和第二流量之间进行流量切换，所述第一流量能在使真空室内为规定压力的真空气氛的状态下喷飞附着在台架和被处理基板中的至少一方上的颗粒，所述第二流量可将因喷飞而在真空室内扩散的颗粒向真空泵移送； 喷射机构具备喷射喷嘴，其在所述真空室内与所述旋转轴线平行地配置在所述台架上方且具有与沿着该旋转轴线的台架的宽度为相等以上的长度，当台架在第一姿态和第二姿态之间摆动期间，从喷射喷嘴以线状喷射第一流量的惰性气体。

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