北京市市政工程设计研究总院有限公司张仙义获国家专利权
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龙图腾网获悉北京市市政工程设计研究总院有限公司申请的专利一种采用竖井横通道破除地下障碍桩的施工结构及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116877088B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310824916.8，技术领域涉及：E21D9/00；该发明授权一种采用竖井横通道破除地下障碍桩的施工结构及方法是由张仙义;刘峰;李名淦;胡伟红;杜玉东;刘佳设计研发完成，并于2023-07-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种采用竖井横通道破除地下障碍桩的施工结构及方法在说明书摘要公布了：一种采用竖井横通道破除地下障碍桩的施工结构及施工方法，包括盾构或顶管隧道，及与隧道交叉的障碍桩，设置上下穿过隧道区域的竖井并邻近所述障碍桩，自所述竖井从下至上连续设置多层围绕所述障碍桩的横通道；所述横通道区域内构成分层破除障碍桩区域。从下至上破除每层横通道范围内的障碍桩，并回填横通道及竖井同层区域；以此类推，完成破除地下障碍桩。本发明通过合理设置竖井和横通道的位置并优化其尺寸、采用可切削的玻璃纤维筋材料制作支护筋体材料、分段破桩和分段回填等措施，不用拆除竖井横通道结构，避免了破桩后拆除暗挖支护结构带来的风险。
本发明授权一种采用竖井横通道破除地下障碍桩的施工结构及方法在权利要求书中公布了：1.一种采用竖井横通道破除地下障碍桩的施工结构，包括盾构或顶管隧道，及与隧道交叉的障碍桩，其特征在于，设置上下穿过隧道区域的竖井1并邻近所述障碍桩2，自所述竖井从下至上连续设置多层围绕所述障碍桩的横通道3；在隧道区域外的下方，设置围绕所述障碍桩的最下层横通道301上方穿入隧道区域，所述最下层横通道底面距隧道区域底部边界的竖向距离一H1至少为1000mm，并依次向上设置第二层横通道、第N层横通道、最上层横通道302，所述最上层横通道向上穿出隧道区域，且所述最上层横通道顶面与隧道区域上部边界的竖向距离二H2至少为1000mm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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