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龙图腾网获悉广东工业大学申请的专利一种氮化铬铝硼铈/氮化铌多层超厚涂层及其沉积方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117867446B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410048914.9，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权一种氮化铬铝硼铈/氮化铌多层超厚涂层及其沉积方法是由李明升;洪泰;谢梓良;魏源设计研发完成，并于2024-01-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种氮化铬铝硼铈/氮化铌多层超厚涂层及其沉积方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种氮化铬铝硼铈氮化铌多层超厚涂层及其沉积方法，氮化铬铝硼铈氮化铌多层超厚涂层包括位于基体外侧的纯铌粘结层，所述纯铌粘结层的外侧设有氮化铌层和氮化铬铝硼铈纳米复合层形成的交替多层结构；其中，所述纯铌粘结层的厚度为0.2‑1.0μm，所述氮化铌层和氮化铬铝硼铈纳米复合层的交替周期为5‑50次，任一周期中的所述氮化铌层的厚度为0.1‑1.0μm，任一周期中的所述氮化铬铝硼铈纳米复合层的厚度为0.2‑2μm，所述涂层的总厚度10‑150μm。本发明提供的一种氮化铬铝硼铈氮化铌多层超厚涂层兼具高硬度、高耐热性、低内应力和高的涂层厚度的优点。

本发明授权一种氮化铬铝硼铈/氮化铌多层超厚涂层及其沉积方法在权利要求书中公布了：1.一种氮化铬铝硼铈氮化铌多层超厚涂层，其特征在于，包括位于基体外侧的纯铌粘结层，所述纯铌粘结层的外侧设有氮化铌层和氮化铬铝硼铈纳米复合层形成的交替多层结构；其中，所述纯铌粘结层的厚度为0.2‑1.0μm，所述氮化铌层和氮化铬铝硼铈纳米复合层的交替周期为5‑50次，任一周期中的所述氮化铌层的厚度为0.1‑1.0μm，任一周期中的所述氮化铬铝硼铈纳米复合层的厚度为0.2‑2μm，所述涂层的总厚度10‑150μm；所述氮化铬铝硼铈氮化铌多层超厚涂层的沉积方法，包括以下步骤： 步骤1：将清洗干净的基体装入涂层炉中，并在一定真空度和温度的情况下，对基体进行等离子处理；其中，所述真空度为3.0×10‑3Pa以下，所述温度为300‑550℃；所述等离子处理依次包括气体等离子清洗和电弧等离子清洗；所述气体等离子清洗具体为：通过气体离子源通入Ar，压力0.1‑0.5Pa，离子源电流为2‑20A，基体施加脉冲负偏压，频率20‑100KHz、峰值50‑500V、占空比50‑90%，在不同偏压峰值下依次对基体进行等离子清洗20‑120min；所述电弧等离子清洗具体为：关闭气体离子源，脉冲负偏压频率20‑80KHz、峰值800‑1500V、占空比10‑50%， Ar分压为0.05‑0.2Pa，打开电弧离子镀纯铌靶，弧源电流40‑120A，对工件进行轰击溅射清洗3‑60min； 步骤2：将等离子处理后的基体沉积纯铌粘结层；其中，所述沉积纯铌粘结层的参数为： 脉冲负偏压调至频率20‑100KHz、峰值40‑100V、占空比50‑90%, Ar压力0.1‑1.0Pa，离子镀纯铌靶弧源电流为60‑200A，沉积纯铌粘结层4‑20min； 步骤3：将沉积纯铌粘结层后的基体依次交替沉积氮化铌层和氮化铬铝硼铈纳米复合层；其中，所述沉积氮化铌层的参数为：脉冲负偏压峰值调至20‑50V，关闭Ar，通入N2，压力为0.1‑1.0Pa，沉积氮化铌层2‑20min；沉积氮化铬铝硼铈纳米复合层的参数为：关闭铌靶，脉冲负偏压峰值调至100‑300V，N2压力为1.0‑4.0Pa，开启铬铝硼铈合金靶，弧电流为80‑200A，沉积时间4‑40min；重复沉积氮化铌层和沉积氮化铬铝硼铈纳米复合层5~50次；所述铬铝硼铈合金靶中，铬的原子百分含量为30‑60%，铝的原子百分含量为40‑60%，硼的原子百分含量为5‑15%，铈的原子百分含量为1‑4%。

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