京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司何宝轲获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118835225B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410889803.0，技术领域涉及：C23C16/52；该发明授权气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质是由何宝轲;马超;罗瑞玺;吴虹见;王永茂;靳福江;曾望明设计研发完成，并于2024-07-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质在说明书摘要公布了：本申请公开了一种气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质，一般涉气相沉积技术领域。该设备包括：相对设置的第一电极和第二电极，第一电极靠近第二电极的一侧设置气体均匀器，气体均匀器和第二电极之间设有第一空间，在第一电极远离第二电极的一侧设置温控板；第一电极与气体均匀器相对设置并通过连接件电连接；连接件包括中空结构，且中空结构在气体均匀器的正投影在第一电极的中间区域在气体均匀器的正投影之内；其中，第一电极与气体均匀器分别贴合设置在连接件两侧的端面上，和或，在气体均匀器靠近第一电极一侧、且处于连接件在气体均匀器正投影区域的外侧区域设置有与温控板中的温控管路相连通的第一温控管路。
本发明授权气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质在权利要求书中公布了：1.一种气相沉积设备，其特征在于，所述设备包括：相对设置的第一电极和第二电极，所述第一电极靠近所述第二电极的一侧设置气体均匀器，所述气体均匀器和所述第二电极之间设有第一空间，所述第一空间用于设置基板，在所述第一电极远离所述第二电极的一侧设置温控板； 所述第一电极与所述气体均匀器相对设置并通过连接件电连接，所述连接件的材料为导热金属材料； 所述连接件包括至少一个中空结构，且所述至少一个中空结构在所述气体均匀器的正投影在所述第一电极的中间区域在所述气体均匀器的正投影之内； 其中，所述第一电极与所述气体均匀器分别贴合设置在所述连接件两侧的端面上，在所述气体均匀器靠近所述第一电极一侧、且处于所述连接件在所述气体均匀器正投影区域的外侧区域设置有与所述温控板中的温控管路相连通的第一温控管路。
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