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龙图腾网获悉中国工程物理研究院应用电子学研究所申请的专利一种聚焦装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118841293B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410847528.6，技术领域涉及：H01J23/087；该发明授权一种聚焦装置是由何轲;李士锋;刘振帮;黄华设计研发完成，并于2024-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种聚焦装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种聚焦装置，包括：磁场均匀组件，磁场均匀组件用于均匀待聚焦组件的磁场；第一聚焦组件，用于产生聚焦磁场，第一聚焦组件包括第一永磁结构和第二永磁结构，第一永磁结构套设在第二永磁结构外侧；第二聚焦组件，第二聚焦组件包括第三永磁结构和第四永磁结构，第三永磁结构套设在第四永磁结构外侧；第三永磁结构与第一永磁结构的充磁方向相反，第四永磁结构和第二永磁结构的充磁方向相反；导磁组件，导磁组件设置在第一聚焦组件的两端，导磁组件用于连接第一聚焦组件与第二聚焦组件。本发明的聚焦装置解决了相关技术中束流聚焦系统重量与体积巨大的技术问题。

本发明授权一种聚焦装置在权利要求书中公布了：1.一种聚焦装置，其特征在于，包括： 磁场均匀组件1，所述磁场均匀组件1用于均匀待聚焦组件的磁场，所述磁场均匀组件1内具有均匀通道10，所述均匀通道10用于供所述待聚焦组件穿过； 第一聚焦组件2，所述第一聚焦组件2与所述磁场均匀组件1连接，所述第一聚焦组件2用于产生聚焦磁场，所述第一聚焦组件2包括第一永磁结构21和第二永磁结构22，所述第一永磁结构21套设在所述第二永磁结构22外侧，所述第一永磁结构21和所述第二永磁结构22之间具有第一安装通道210，所述第一安装通道210与所述均匀通道10连通，所述第一安装通道210用于供所述待聚焦组件穿过； 第二聚焦组件3，所述第二聚焦组件3与所述第一聚焦组件2相间隔地设置，所述第二聚焦组件3包括第三永磁结构31和第四永磁结构32，所述第三永磁结构31套设在所述第四永磁结构32外侧，所述第三永磁结构和所述第四永磁结构32之间具有第二安装通道，所述第二安装通道与所述第一安装通道210连通，所述第二安装通道用于供所述待聚焦组件穿过；所述第三永磁结构31与所述第一永磁结构21的充磁方向相反，所述第四永磁结构32和所述第二永磁结构22的充磁方向相反； 导磁组件4，所述导磁组件4设置在所述第一聚焦组件2的两端，所述导磁组件4用于连接所述第一聚焦组件2与所述第二聚焦组件3，所述导磁组件4上设置有第三安装通道41，所述第三安装通道41与所述第一安装通道210连通，所述第三安装通道41用于供所述待聚焦组件穿过。

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