瑞芯微电子股份有限公司朱林靖获国家专利权
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龙图腾网获悉瑞芯微电子股份有限公司申请的专利曝光配置方法、存储介质及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119071645B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411067981.1，技术领域涉及：H04N23/743；该发明授权曝光配置方法、存储介质及电子设备是由朱林靖设计研发完成，并于2024-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光配置方法、存储介质及电子设备在说明书摘要公布了：本公开提供曝光配置方法、存储介质及电子设备。所述曝光配置方法包括：根据图像帧头信号更新第一计数值；在所述第一计数值更新且第一曝光序列集中包含曝光参数时，从所述第一曝光序列集中选择曝光参数并将所述曝光参数配置给图像传感器；根据图像帧尾信号更新第二计数值；在所述第二计数值更新时获取对应于所述第二计数值的参考图像，根据所述参考图像生成第二曝光序列集；以及在所述第二曝光序列集包含曝光参数时，利用所述第二曝光序列集更新所述第一曝光序列集。所述曝光配置方法能够提升曝光的稳定性及平滑度。
本发明授权曝光配置方法、存储介质及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种曝光配置方法，其特征在于，包括： 根据图像帧头信号更新第一计数值； 在所述第一计数值更新且第一曝光序列集中包含曝光参数时，从所述第一曝光序列集中选择曝光参数并将所述曝光参数配置给图像传感器； 根据图像帧尾信号更新第二计数值； 在所述第二计数值更新时获取对应于所述第二计数值的参考图像，根据所述参考图像生成第二曝光序列集；以及在所述第二曝光序列集包含曝光参数时，利用所述第二曝光序列集更新所述第一曝光序列集。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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