哈尔滨工业大学;哈尔滨工业大学重庆研究院李杨获国家专利权
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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学;哈尔滨工业大学重庆研究院申请的专利基于高熵合金的多谱段兼容隐身涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119553229B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411757380.3，技术领域涉及：C23C14/16；该发明授权基于高熵合金的多谱段兼容隐身涂层及其制备方法是由李杨;于冬梅;吴晓宏;汪新智;洪杨;卢松涛;秦伟设计研发完成，并于2024-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于高熵合金的多谱段兼容隐身涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于高熵合金的多谱段兼容隐身涂层及其制备方法，属于功能性高熵合金涂层及其制备技术领域。本发明解决了现有隐身涂层存在的在宽光谱范围内实现的可见光和红外隐身效果差的问题。本发明利用磁控溅射技术制备高熵合金薄膜，通过元素的科学筛选和优化组合，并通过调控磁控溅射参数实现材料成分和结构的高效定制，从而获得均匀、致密且性能优异的高熵合金薄膜。测试结果表明该高熵合金涂层可见光波段吸收率约为0.95，在红外波段发射率约为0.05左右，实现了可见光和红外光谱范围的多谱段兼容隐身。
本发明授权基于高熵合金的多谱段兼容隐身涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种隐身涂层，其特征在于，该涂层由Al、Cr、Ti、W和Y五种元素按照原子百分比的比为1:1:1:1:1组成的高熵合金涂层和层叠在其表面的Al2O3、SiO2或Si3N4透明氧化物层组成。
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