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龙图腾网获悉光千合新材料科技(成都)有限公司申请的专利一种可抑制显示闪点防眩光的减反射结构及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119638208B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411817351.1，技术领域涉及：C03C17/245；该发明授权一种可抑制显示闪点防眩光的减反射结构及其制作方法是由李资政;郑建华设计研发完成，并于2024-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可抑制显示闪点防眩光的减反射结构及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明属于显示设备技术领域，尤其是一种可抑制显示闪点防眩光的减反射结构及其制作方法，包括以下步骤：微纳结构纹路掩膜板的设计与加工；玻璃基材表面AG微纳结构的制作；利用电子束蒸发镀膜工艺在AG微纳结构表面镀制顶层。本发明的制作工艺路线简单，方法适用于2D、2.5D以及3D等各类型玻璃基材。所设计的纹路结构分布具备随机特性，结构平均分布周期在微米量级，不仅具备防眩光特性，而且还能有效抑制显示面板的闪点问题，顶层镀制AF膜不会降低结构增透效果，结构加工后玻璃基材表面没有明显摩尔纹和彩虹纹，同时相应的透过光增加提高了增透效果，进而提高了用户视觉体验。

本发明授权一种可抑制显示闪点防眩光的减反射结构及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种可抑制显示闪点防眩光的减反射结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤S1：微纳结构纹路掩膜板的设计与加工； S1.1：在编程语言环境下编写透光纹路生成算法，并设定透光纹路生成算法参数；通过透光纹路生成算法生成透光纹路图案；所述透光纹路为冰裂纹或迷宫纹；所述透光纹路生成算法参数包括：纹路宽度、纹路占比空间、纹路长度和纹路平均周期； S1.2：将透光纹路图案代入到掩膜板作图软件中生成微纳结构纹路掩膜板设计图； S1.3：将微纳结构纹路掩膜板设计图导入到激光直写机中进行微纳结构纹路掩膜板的加工； 步骤S2：玻璃基材表面AG微纳结构的制作； S2.1：在玻璃基材表面进行清洗处理，提高表面洁净度； S2.2：在玻璃基材表面利用批量旋涂光刻胶特殊治具进行表面均匀旋涂光刻胶；所述批量旋涂光刻胶特殊治具的加工方法为： 利用大尺寸的正方形石英玻璃基板，表面加工出与玻璃基材尺寸完全一致的凹槽区域，凹槽内放置玻璃基材后，玻璃基材表面高度与正方形石英玻璃基板表面保持一致； 所述光刻胶选用AZ1500型正胶；所述光刻胶厚度为400nm‑3000nm； S2.3：采用接触式曝光将玻璃基材表面的光刻胶层曝光出微纳结构纹路掩膜板上的透光纹路形状； S2.4：通过显影液浸泡处理去除掉透光纹路位置的光刻胶； S2.5：利用反应离子束刻蚀玻璃基材，通过清洗后获取AG微纳结构； 所述AG微纳结构的材料为二氧化硅，折射率为1.48‑1.54；所述AG微纳结构的厚度为60nm‑1000nm； 步骤S3：利用电子束蒸发镀膜工艺在AG微纳结构表面镀制顶层；所述顶层的材料为PFPE材料，折射率为1.32‑1.36；所述AG微纳结构与顶层之间设置硬质碳膜或氮化物。

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