北京理工大学刘少丽获国家专利权
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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利基于蒙特卡洛方法的偏振散射模型参数测量方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119688072B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411871607.7，技术领域涉及：G01J4/00；该发明授权基于蒙特卡洛方法的偏振散射模型参数测量方法和装置是由刘少丽;梁源;刘检华;夏焕雄;黄嘉淳设计研发完成，并于2024-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于蒙特卡洛方法的偏振散射模型参数测量方法和装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于蒙特卡洛方法的偏振散射模型参数测量方法和装置，该方法包括：基于蒙特卡洛方法模拟偏振光在漫反射过程中的多次散射过程，获得偏振光的去偏振系数与偏振光在材料内部散射的散射距离之间的第一函数关系；根据不同材料的散射系数和散射距离的第二函数关系与第一函数关系，建立去偏振系数与散射系数之间的函数曲线；将函数曲线与预先构建的初始模型进行拟合，生成偏振散射模型；对偏振散射模型中的偏振参数和强度参数分别进行优化，获得优化后的偏振散射模型。本发明实施例的偏振散射模型能够更加精准的还原物体的偏振信息，且能够处理非传统的高散射物体。
本发明授权基于蒙特卡洛方法的偏振散射模型参数测量方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种基于蒙特卡洛方法的偏振散射模型参数测量方法，其特征在于，包括： 基于蒙特卡洛方法模拟偏振光在漫反射过程中的多次散射过程，获得所述偏振光的去偏振系数与所述偏振光在材料内部散射的散射距离之间的第一函数关系； 根据不同材料的散射系数和所述散射距离的第二函数关系与所述第一函数关系，建立所述去偏振系数与所述散射系数之间的函数曲线； 将所述函数曲线与预先构建的初始模型进行拟合，生成偏振散射模型； 对所述偏振散射模型中的偏振参数和强度参数分别进行优化，获得优化后的所述偏振散射模型。
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