上海鲲游科技有限公司陈和峰获国家专利权
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龙图腾网获悉上海鲲游科技有限公司申请的专利图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120522970B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511036368.8，技术领域涉及：G03F1/76；该发明授权图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅是由陈和峰;陈定强;郭旭红;楼歆晔设计研发完成，并于2025-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅在说明书摘要公布了：本发明提供了一种图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅，图形化挡板用于调制深度连续渐变的微纳光学结构，所述挡板包括：扇形基板一和扇形基板二，所述扇形基板一与所述扇形基板二的圆心重合且其边缘相邻设置；所述扇形基板一由至少一个扇形段构成；所述扇形基板二由至少两个不同半径大小的扇形段同心相邻组合而成；所述扇形基板一中任意一个扇形段的半径不等于所述扇形基板二中任意一个扇形段的半径。通过设置不同扇形段的不同半径大小来提高纳米级光学结构的刻蚀精度，尤其是实现深度连续渐变的精确调制，从而制备具有多个不同深度的光栅结构区域，而每一个光栅结构区域内的光栅结构深度是相同的。
本发明授权图形化挡板、微纳光学结构的深度控制方法、衍射光栅在权利要求书中公布了：1.一种图形化挡板，用于制备具有深度变化的微纳光学结构，其特征在于，所述图形化挡板包括：扇形基板一和扇形基板二，所述扇形基板一与所述扇形基板二的圆心重合且边缘相邻设置；所述扇形基板一包括至少一个基础扇形；所述扇形基板二包括至少一个扩展扇形；所述扩展扇形的半径小于所述基础扇形的半径，并且在所述扩展扇形多于一个时，各所述扩展扇形同圆心且边缘相邻设置且半径各不相同。
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