拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司毕孝楠获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利加热盘及薄膜沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223414042U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-03发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422656282.2，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型加热盘及薄膜沉积设备是由毕孝楠;张亚新;阚金卓设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本加热盘及薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种加热盘及薄膜沉积设备，该加热盘包括：盘体、盘柄和至少一组抽气流道，所述盘柄连接于所述盘体的中心，所述盘体的中心在所述盘体的垂直投影方向上具有盘柄投影区，所述抽气流道包括第一抽气孔、第二抽气孔和连接流道，所述第一抽气孔设于所述盘体上，所述第二抽气孔设于所述盘柄上，所述连接流道设于所述盘体和或所述盘柄上，所述第一抽气孔通过所述连接流道与所述第二抽气孔连通；其中，所述第一抽气孔设于所述盘柄投影区之外。由此，使得第一抽气孔远离第二抽气孔，避开盘柄投影区，减少气体流动带走的热量，改善了盘柄投影区的温度偏低的情形，避免了加热盘因为外热内冷导致的碎裂。
本实用新型加热盘及薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种加热盘，其特征在于，包括：盘体、盘柄和至少一组抽气流道，所述盘柄连接于所述盘体的中心，所述盘体的中心在所述盘体的垂直投影方向上具有盘柄投影区，所述抽气流道包括第一抽气孔、第二抽气孔和连接流道，所述第一抽气孔设于所述盘体上，所述第二抽气孔设于所述盘柄上，所述连接流道设于所述盘体和或所述盘柄上，所述第一抽气孔通过所述连接流道与所述第二抽气孔连通； 其中，所述第一抽气孔设于所述盘柄投影区之外。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司，其通讯地址为：110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励