百及纳米科技(上海)有限公司周向前获国家专利权
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龙图腾网获悉百及纳米科技(上海)有限公司申请的专利一种步进式光刻机、其工作方法及图形对准装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112445088B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011412793.X，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权一种步进式光刻机、其工作方法及图形对准装置是由周向前;尹志尧;朗格诺;杜川设计研发完成，并于2020-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种步进式光刻机、其工作方法及图形对准装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种步进式光刻机、其光刻图形对准装置及工作方法。本发明在晶圆上设置若干三维标记，以此作为晶圆表面定位的坐标预设，利用针尖传感头传感技术测量该三维标记获得晶圆表面亚纳米精度的坐标，然后移动晶圆工作台，随之测得晶圆工作台移动后的三维标记的新坐标并同晶圆工作台移动前同样的三维纳米坐标比较得出晶片区域位置坐标误差值。利用闭环控制原理将这个坐标误差通过移动曝光束发生装置同晶片区域的相对位置进行补偿，实现相对坐标位置的重新精确对准。本发明可以应用在使用掩模板的深紫外和极紫外光学光刻机，也可以应用在电子束光子束直写式光刻机的亚纳米级晶片区域或写场横向和纵向对准拼接等应用场景。
本发明授权一种步进式光刻机、其工作方法及图形对准装置在权利要求书中公布了：1.一种光刻图形对准装置，所述装置位于一光刻机机体内，其特征在于，所述装置包括： 一晶圆工作台，用于承载待处理晶圆，所述晶圆包括若干晶片区域和晶片区域外围的场外区域，所述晶圆表面设置光敏层，所述光敏层设有三维标记，所述三维标记具有与所述光敏层的上表面不在同一水平面的区域； 纳米针尖传感装置，包括一针尖传感头，所述针尖传感头位于所述光敏层的上方，用于在一扫描区域内移动扫描并确定该扫描区域内三维标记的坐标； 曝光束发生装置，用于提供晶片区域曝光所需的曝光光子束，并在所述光敏层上形成投影曝光区； 位移驱动装置，用于根据所述针尖传感头测得的三维标记坐标调整所述曝光束发生装置和所述晶圆工作台的相对位置，使得所述投影曝光区与待曝光晶片区域对准。
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