东京毅力科创株式会社横田聪裕获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置及处理基板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112466734B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010876613.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置及处理基板的方法是由横田聪裕设计研发完成，并于2020-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置及处理基板的方法在说明书摘要公布了：本发明所公开的一种等离子体处理装置具备腔室、基板支撑器、等离子体生成部以及第1和第2电磁铁组件。基板支撑器配置于腔室内。基板支撑器上的基板的中心位于腔室的中心轴线上。等离子体生成部构成为在腔室内生成等离子体。第1电磁铁组件构成为包括一个以上的第1环状线圈，且配置于腔室上或其上方，并且在腔室内生成第1磁场。第2电磁铁组件构成为包括一个以上的第2环状线圈，且在腔室内生成第2磁场。第2磁场在基板支撑器上的基板的中心降低第1磁场的强度。
本发明授权等离子体处理装置及处理基板的方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其具备： 腔室，具有中心轴线； 基板支撑器，配置于所述腔室内，所述基板支撑器上的基板的中心位于所述中心轴线上； 等离子体生成部，构成为由供应到所述腔室内的处理气体生成等离子体； 第1电磁铁组件，配置于所述腔室上或其上方，包括第1环状线圈、包围所述第1环状线圈的第2环状线圈、包围所述第2环状线圈的第3环状线圈以及包围所述第3环状线圈的第4环状线圈； 至少一个第1电源，构成为，分别向所述第1环状线圈、所述第2环状线圈、所述第3环状线圈以及所述第4环状线圈供给第1电流、第2电流、第3电流以及第4电流，以在所述腔室内生成第1磁场； 第2电磁铁组件，配置于所述基板支撑器的下方，包括第5环状线圈，该第5环状线圈在纵向上与所述第1环状线圈重复，且不伴有在纵向上与所述第3环状线圈及所述第4环状线圈重复的任何环状线圈；及 第2电源，构成为向所述第5环状线圈供给第5电流，以在所述基板支撑器上的所述基板的所述中心生成降低所述第1磁场的强度的第2磁场。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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