微软技术许可有限责任公司C·F·托马斯获国家专利权
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龙图腾网获悉微软技术许可有限责任公司申请的专利耐用的混合异质结构及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114424353B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080065946.X，技术领域涉及：H10N60/10；该发明授权耐用的混合异质结构及其制造方法是由C·F·托马斯;M·J·曼弗拉设计研发完成，并于2020-06-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本耐用的混合异质结构及其制造方法在说明书摘要公布了：一种混合异质结构10包括：包括锑化铟的半导体层12、包括铝的超导体层16、以及在半导体层与超导体层之间的屏蔽层14，屏蔽层包括砷化铟。通过在锑化铟半导体层与铝超导体层之间包括砷化铟屏蔽层，提供了适用于量子计算设备的高性能且耐用的混合异质结构。
本发明授权耐用的混合异质结构及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种混合异质结构，包括： ·半导体层，仅包括锑化铟或锑化铝铟； ·超导体层，包括铝；以及 ·屏蔽层，在所述半导体层与所述超导体层之间，所述屏蔽层仅包括砷化铟。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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