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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于等离子体处理腔室中晶片载体的先进温度控制获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114724916B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210449266.9，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于等离子体处理腔室中晶片载体的先进温度控制是由F·M·斯李维亚;张春雷;P·克里米诺儿;赵在龙设计研发完成，并于2017-03-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于等离子体处理腔室中晶片载体的先进温度控制在说明书摘要公布了：描述了用于等离子体处理腔室中晶片载体的先进温度控制系统和方法。在一个示例中，热交换器向工件载体的流体通道提供温度受控的热流体以及接收来自流体通道的热流体。比例阀在热交换器和流体通道之间，以控制从热交换器到流体通道的热流体的流速。气动阀也在热交换器和流体通道之间，也控制来自热交换器与流体通道的热流体的流速。温度控制器接收来自载体的热传感器的测得的温度并响应于测得的温度控制比例阀和气动阀，以调整热流体的流速。

本发明授权用于等离子体处理腔室中晶片载体的先进温度控制在权利要求书中公布了：1.一种工件处理系统，包括： 等离子体腔室； 等离子体源，用于在所述等离子体腔室中产生含有气体离子的等离子体； 工件固持器，所述工件固持器在所述腔室中以在等离子体处理期间固持工件且控制所述工件的温度，所述工件固持器具有第一流体通道和第二流体通道； 第一流动线，所述第一流动线耦接到所述工件固持器的所述第一流体通道，所述第一流动线包括第一供应流动线和第一返回流动线，所述第一返回流动线耦接到仅单一返回歧管； 第二流动线，所述第二流动线耦接到所述工件固持器的所述第二流体通道，所述第二流动线包括第二供应流动线和第二返回流动线，所述第二返回流动线耦接到仅所述单一返回歧管，其中所述第一返回流动线和所述第二返回流动线的输出的全部被输入到所述单一返回歧管，并且其中所述第一返回流动线和所述第二返回流动线的所述输出的所述全部与所述第一供应流动线和所述第二供应流动线的输出的全部相同； 第一比例阀，所述第一比例阀耦接到所述第一供应流动线，所述第一比例阀在所述单一返回歧管和所述工件固持器之间，并且所述第一比例阀用于在打开位置和关闭位置之间为流动速率提供逐步调整； 第二比例阀，所述第二比例阀耦接到所述第二供应流动线，所述第二比例阀在所述单一返回歧管和所述工件固持器之间，并且所述第二比例阀用于在打开位置和关闭位置之间为流动速率提供逐步调整； 第一流量计，所述第一流量计在所述第一比例阀和所述单一返回歧管之间，所述第一流量计与所述第一比例阀串联；以及 第二流量计，所述第二流量计在所述第二比例阀和所述单一返回歧管之间，所述第二流量计与所述第二比例阀串联。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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