科磊股份有限公司D·克莱因获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利用于基于计量景观优化计量的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114762094B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080082662.1，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权用于基于计量景观优化计量的系统及方法是由D·克莱因;T·马西安诺;N·阿蒙设计研发完成，并于2020-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于基于计量景观优化计量的系统及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于量化计量对过程变动的敏感性的方法，其包含：通过计量工具对定位于半导体晶片上的至少一个位点处的至少一个计量目标执行计量，借此产生计量景观；及直接基于所述计量景观计算敏感性度量，所述敏感性度量量化所述计量景观对在制造所述半导体晶片时涉及的过程变动的敏感性。
本发明授权用于基于计量景观优化计量的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于量化计量对过程变动的敏感性的方法，其包括： 通过计量工具对定位于半导体晶片上的至少一个位点处的至少多个计量目标执行计量，借此产生计量景观；及 直接基于所述计量景观计算敏感性度量，所述敏感性度量量化所述计量景观对在制造所述半导体晶片时涉及的过程变动的敏感性，其中所述计算敏感性度量包括针对所述多个计量目标中的每一者计算敏感性度量； 所述方法还包括比较针对所述多个计量目标中的每一者计算的所述敏感性度量及基于所述多个计量目标中的选定计量目标的所述敏感性度量的值低于所述多个计量目标中的其它者的所述敏感性度量的值，选择所述选定计量目标作为与所述多个计量目标中的所述其它者相比对所述过程变动具有最小敏感性的最佳计量目标；及 在所述选择所述选定计量目标之后： 利用所述选定计量目标，通过所述计量工具对所述半导体晶片进一步执行计量，借此产生额外计量景观； 将所述额外计量景观至少分解成起因于其中的系统性及非系统性错误的其分量； 量化所述分量中的至少一者对所述额外计量景观的贡献；及 通过从其移除通过所述量化寻找的所述贡献而校正所述额外计量景观。
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