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龙图腾网获悉合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利印制电路板的布局参数确定方法、装置及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114792083B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210313628.1，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权印制电路板的布局参数确定方法、装置及存储介质是由邵俊;谢登玲;储汉奇;聂竹华;陈帮民;常东;何峰;王秋卜;薛瑞设计研发完成，并于2022-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本印制电路板的布局参数确定方法、装置及存储介质在说明书摘要公布了：本公开提供了印制电路板的布局参数确定方法、装置、存储介质及电子设备，该方法包括：确定位于第一区域内的屏蔽层的第一形变量与相邻的两个元件之间的间距之间的第一关联关系；确定位于第二区域内的屏蔽层的第二形变量与第二区域内屏蔽层的宽度之间的第二关联关系；将相邻的两个元件之间的高度差作为第一形变量，结合第一关联关系确定间距；将位于印制电路板边缘的元件高度的12作为第二形变量，结合第二关联关系确定宽度；根据间距进行印制电路板上元件的布局设计，根据宽度确定屏蔽层尺寸。本公开基于屏蔽层的形变量与布局参数之间的关联关系，得到元件布局间距以及屏蔽层的实际尺寸，进而避免异响发生。

本发明授权印制电路板的布局参数确定方法、装置及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种印制电路板的布局参数确定方法，所述印制电路板表面设置有多个元件，在所述元件远离所述印制电路板的一侧贴覆有屏蔽层，所述屏蔽层覆盖所有所述元件，并且与所述印制电路板之间具有粘接区，其特征在于，所述布局参数确定方法包括： 确定位于第一区域内的所述屏蔽层的第一形变量与相邻的两个所述元件之间的间距之间的第一关联关系，其中，所述第一区域为所述屏蔽层覆盖所有所述元件的区域； 确定位于第二区域内的所述屏蔽层的第二形变量与所述第二区域内所述屏蔽层的宽度之间的第二关联关系，其中，所述第二区域为所述屏蔽层除去所述第一区域以及所述粘接区以外的区域； 将相邻的两个所述元件之间的高度差作为所述第一形变量，结合所述第一关联关系确定所述间距； 将位于所述印制电路板边缘的元件高度的12作为所述第二形变量，结合所述第二关联关系确定所述宽度； 根据所述间距进行所述印制电路板上所述元件的布局设计，根据所述宽度确定所述屏蔽层尺寸。

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