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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利接近式曝光装置及曝光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115561968B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110744580.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权接近式曝光装置及曝光方法是由王刚;黄元昊;罗闻;董洪波;周伟;刘晓;苏海业设计研发完成，并于2021-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本接近式曝光装置及曝光方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种接近式曝光装置及曝光方法，其中，第一基板承载台、第一运输器、基板存储结构、第二运输器以及第二基板承载台呈线性排列，利于基板的运输。基板存储结构包括至少两个工位，以实现同时上下板。第一运输器和第二运输器均包括第一机械手和第二机械手，两个机械手可以独立作业，提高生产效率。此外，第一工件台和第二工件台共用一个曝光单元，不仅能有序曝光，还降低成本，缩小接近式曝光装置的尺寸。并且，基板存储结构和曝光单元共线设置，两个基板承载台、两个运输器和两个工件台均关于所述共线呈对称分布。这布局方式不仅有利于提高基板的传输效率，节约时间成本，提高生产效率，还能缩小接近式曝光装置的尺寸，提高产品竞争力。

本发明授权接近式曝光装置及曝光方法在权利要求书中公布了：1.一种接近式曝光装置，其特征在于，包括：基板传输单元、工件台传输单元以及曝光单元； 所述基板传输单元包括沿第一方向共线排列的第一基板承载台、第一运输器、基板存储结构、第二运输器以及第二基板承载台；其中，所述基板存储结构包括至少两个工位，每一所述工位存储一片基板；所述第一运输器和所述第二运输器均包括第一机械手和第二机械手，用于运输所述基板和或掩模板；所述第一基板承载台和所述第二基板承载台用于承载并定位所述基板； 所述工件台传输单元包括设置于导轨上的第一工件台和第二工件台，用于调整所述基板和或所述掩模板的位置，并运输至所述曝光单元； 所述曝光单元用于曝光所述基板； 其中，所述基板存储结构和所述曝光单元沿第二方向共线设置，且所述第一基板承载台和所述第二基板承载台，所述第一运输器和所述第二运输器，以及所述第一工件台和所述第二工件台均关于所述基板存储结构和所述曝光单元所在的共线呈对称分布；以及， 所述接近式曝光装置还包括掩模板接口和掩模板存储结构；其中，所述掩模板经所述掩模板接口进入所述接近式曝光装置，并存储于所述掩模板存储结构中；和或，所述掩模板经所述掩模板接口离开所述接近式曝光装置； 所述掩模板存储结构叠置于所述第一基板承载台上，且所述第一运输器能够从所述掩模板存储结构中夹取或放置所述掩模板。

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