上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司孙鹏飞获国家专利权
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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司申请的专利光学邻近效应修正方法、装置及电子设备、存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115933304B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211711745.X，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近效应修正方法、装置及电子设备、存储介质是由孙鹏飞设计研发完成，并于2022-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近效应修正方法、装置及电子设备、存储介质在说明书摘要公布了：本申请提供一种光学邻近效应修正方法、装置及电子设备、存储介质。该方法包括：根据预设分段值和已知的分段边长度对目标通孔图形的非固定边进行分段，得到多个分段边；筛选出多个分段边中符合距离条件的目标分段边；基于目标分段边进行光学邻近效应修正后得到模拟图形，当模拟图形与目标通孔图形之间的误差在预设范围内时，完成修正。本申请的方法可以解决如何使得最终得到的模拟结果与目标图形之间的误差更小，提高OPC的修正精度的问题。
本发明授权光学邻近效应修正方法、装置及电子设备、存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近效应修正方法，其特征在于，包括： 获取目标通孔图形，根据预设分段值和已知的分段边长度对所述目标通孔图形的非固定边进行分段，得到多个分段边，其中，所述目标通孔图形的形状为矩形，所述目标通孔图形包括固定边和非固定边； 筛选出所述多个分段边中符合距离条件的目标分段边，所述距离条件至少包括以下两种条件：第一条件为，所述目标通孔图形与亚分辨辅助图形组成的平面图形中，所述目标通孔图形与互相垂直的两个方向上相邻的每个图形之间的距离均小于第一预设距离；第二条件为，分段边与投影图形之间的距离小于第二预设距离，所述投影图形包括亚分辨辅助图形的投影图形； 基于目标分段边进行光学邻近效应修正后得到模拟图形，当模拟图形与所述目标通孔图形之间的误差在预设范围内时，完成修正； 所述第一预设距离和所述第二预设距离均是根据分段边的长度确定得到的； 所述第一预设距离大于分段边的长度，所述第二预设距离小于分段边的长度。
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