杭州电子科技大学郑开浪获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州电子科技大学申请的专利一种1Bit反射阵相位优化方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116029208B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310011358.3,技术领域涉及:G06F30/27;该发明授权一种1Bit反射阵相位优化方法是由郑开浪;徐魁文;习浩伟;陈世昌;余显斌设计研发完成,并于2023-01-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种1Bit反射阵相位优化方法在说明书摘要公布了:本发明属于无线通信技术领域,公开了一种1Bit反射阵相位优化方法,包括如下步骤:步骤1:初始化种群,即父代;步骤2:结合快速傅里叶变换计算父代的目标值;步骤3:根据目标值计算出个体的适应度和选择概率;步骤4:对种群个体进行选择、交叉、变异产生新的相位分布,即子代;步骤5:重复步骤2计算出子代目标值;步骤6:根据子父代目标值选择出新的目标值,重复步骤2到6,直到优化出最优解;步骤7:验证算法优化结果的正确性和优化方向图优化的正确性。本发明采用了简化的方向图计算公式并结合了快速傅里叶变换加快了不同相位分布下的方向图目标值的计算,减少了算法的优化基因序列,提高了算法的优化速度和收敛速度。
本发明授权一种1Bit反射阵相位优化方法在权利要求书中公布了:1.一种1Bit反射阵相位优化方法,基于遗传算法和快速傅里叶变换算法,其特征在于,包括如下步骤: 步骤1:初始化种群,即父代; 步骤2:结合快速傅里叶变换计算父代的目标值; 目标值的计算使用简化的方向图计算公式并结合快速傅里叶变换进行加速,计算出的方向图和边界条件进行做差得到当前个体相位分布对应的目标值大小,目标值的计算公式如下: FGA=W1·F1GA+W2·F2GA 式中W1和W2为权重系数,F1GA为超出下边界的目标值误差,F2GA为超出上边界的目标值误差,其中i和j表示方向图计算中的离散角度指标,电场E为当前相位所计算出的归一化电场,EUpmask和ElowMask分别为约束条件的上边界和下边界,通过设置边界值得到所需要的辐射方向图,方向图的计算采用如下公式: 式中φRA,mn为每个单元的补偿相位,为单元的位置向量,为辐射方向图的观测角度,dx和dy为单元在X轴和Y轴方向上的长度大小,表示斜入射角度下单元的反射损耗,表示反射单元辐射的归一化电场方向图,在运算中qr和qe取值为1,从式中看出F′m,n为只和m、n有关的系数项,方向图的计算转化为二维傅里叶变换的计算,采用二维快速傅里叶变换完成加速; 步骤3:根据目标值计算出个体的适应度和选择概率; 步骤4:对种群个体进行选择、交叉、变异产生新的相位分布,即子代; 步骤5:重复步骤2计算出子代目标值; 步骤6:根据子父代目标值选择出新的目标值,重复步骤2到6,直到优化出最优解; 步骤7:验证算法优化结果的正确性和优化方向图优化的正确性。
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