中冶天工集团有限公司邱太岗获国家专利权
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龙图腾网获悉中冶天工集团有限公司申请的专利一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构及施工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116163312B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211101654.4，技术领域涉及：E02D17/04；该发明授权一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构及施工方法是由邱太岗;付成;郑国;邢杰设计研发完成，并于2022-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构及施工方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构及施工方法，涉及建筑施工技术领域，以解决现有的软土地区的基坑工程在开挖过程中，常常因为时空效应产生围护结构变形过大的技术问题，该结构包括基坑支护组件和设置于基坑内的支撑结构，基坑支护组件包括基坑围护结构和设置于基坑围护结构顶部的冠梁，紧贴基坑围护结构设置第一沟槽，第一沟槽内设置围檩；紧贴支撑结构的周侧设置第二沟槽，第二沟槽内设置圈梁，圈梁的纵向受力筋包裹所述支撑结构；围檩与圈梁之间设置支顶梁，本发明的有益效果是通过暗梁支撑限制围护结构早期位移变形，提高基坑的围护结构的稳定性，为地下结构的施工提供了安全可靠的作业环境和和谐的周边环境。
本发明授权一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构及施工方法在权利要求书中公布了：1.一种设于基底被动区限制变形的暗撑结构，其特征在于：包括基坑支护组件和设置于基坑内的支撑结构，其中： 所述基坑支护组件包括基坑围护结构和设置于所述基坑围护结构顶部的冠梁，紧贴所述基坑围护结构设置第一沟槽，所述第一沟槽内设置围檩； 紧贴所述支撑结构的周侧设置第二沟槽，所述第二沟槽内设置圈梁，所述圈梁的纵向受力筋包裹所述支撑结构； 所述围檩与所述圈梁之间设置支顶梁； 所述支撑结构的顶标高低于基底200mm以上，设置于一排的多个所述支撑结构均倾斜布置或者设置于一排的多个所述支撑结构采用倾斜、竖直间隔排布，所述支撑结构与竖直方向的倾斜角度为10°-20°； 还包括包封结构，所述支顶梁设置于所述包封结构内，所述包封结构的包裹厚度不小于100mm； 还包括基础垫层，其中： 所述基础垫层设置于所述圈梁、所述围檩以及所述支顶梁的顶部，所述基础垫层与所述圈梁、所述围檩以及所述支顶梁之间设置级配砂石层。
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