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龙图腾网获悉华东师范大学申请的专利用于磁共振弥散加权成像的多参数后处理模型的构建方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116230239B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310093855.2，技术领域涉及：G16H50/50；该发明授权用于磁共振弥散加权成像的多参数后处理模型的构建方法是由吴东梅;张成秀;杨光;戴勇鸣设计研发完成，并于2023-02-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于磁共振弥散加权成像的多参数后处理模型的构建方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于磁共振弥散加权成像的多参数后处理模型的构建方法，针对DWI信号在不同弥散敏感系数b下的变化侧重反映生物组织结构不同方面的特征，通过利用统一的数学描述，解决目前的后处理模型只针对某一b值范围DWI信号建立，不能全面反映生物组织结构特征的局限性。该模型考虑在高b值下，生物组织中细胞壁、细胞外基质等限制水分子的扩散运动不再呈高斯性，低b值下，毛细血管中血流微循环引起体素内质子相位不相干从而影响了DWI信号值的变化，所构建的IVIM‑VDC模型统一描述DWI信号值在不同b值下发生的变化，并将每个b值与其对应的DWI图像的信号分段利用后处理模型IVIM‑VDC拟合，输出IVIM‑VDC模型相应参数，更能全面反映生物组织结构特征。

本发明授权用于磁共振弥散加权成像的多参数后处理模型的构建方法在权利要求书中公布了：1.一种用于磁共振弥散加权成像的多参数后处理模型的构建方法，其特征在于，该方法具体包括如下步骤： 步骤1：使用多b值采集一组DWI数据，所述b值为弥散敏感系数； 步骤2：对采集的DWI数据进行去除Rician噪声处理； 步骤3：构建DWI多参数后处理模型IVIM_VDC： 其中，b为弥散敏感系数，S为弥散敏感系数为b值时的DWI信号值，S为弥散敏感系数b值为0时的DWI信号值，f为灌注效应的体积分数，D为伪弥散加权系数，弥散加权系数D对应于受阻扩散，弥散加权系数D对受限扩散更加敏感，反应组织的复杂度； 步骤4：将每个b值与其对应的DWI信号使用模型IVIM-VDC进行拟合，从而计算出IVIM-VDC模型的参数S、f、D、D和D；其中： 所构建的DWI多参数后处理模型IVIM_VDC，是一种将DWI信号在不同b值下变化用一个数学表达综合描述的模型，要在不同的b值范围内采集DWI数据；步骤1所述多b值，是有至少4个最高200smm的b值、有至少2个最低200smm最高1000smm的b值和有至少2个最小1000smm的b值。

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