南京波长光电科技股份有限公司陈佳佳获国家专利权
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龙图腾网获悉南京波长光电科技股份有限公司申请的专利一种硅基底中波红外带空气间隙的棱镜PBS分束膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116300117B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310435455.5，技术领域涉及：G02B27/10；该发明授权一种硅基底中波红外带空气间隙的棱镜PBS分束膜是由陈佳佳;李全民;王劲设计研发完成，并于2023-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种硅基底中波红外带空气间隙的棱镜PBS分束膜在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅基底中波红外带空气间隙的棱镜PBS分束膜，其结构为：SaLbHcLdHeLfHgLhHiAS，其中，S代表Si基底、A代表空气间隙、H代表Ge、L代表SiO；a‑i代表第一层到第八层的四分之一参考波长光学厚度的系数。本发明提供一种硅基底中波红外带空气间隙的棱镜PBS分束膜，采用无胶胶合的方法，避免了胶体对通光孔径内光学指标的影响；耐水性好，膜层持久、稳定，透射率高。
本发明授权一种硅基底中波红外带空气间隙的棱镜PBS分束膜在权利要求书中公布了：1.一种硅基底中波红外带空气间隙的棱镜PBS分束膜，其特征在于：其结构为：SaLbHcLdHeLfHgLhHiAS，其中，S代表Si基底、A代表空气间隙、H代表Ge、L代表SiO；a-i代表第一层到第八层的四分之一参考波长光学厚度的系数； Si基底有结构相同的两块，两块Si基底靠合在一起，分束膜设在两块Si基底之间，分束膜上无胶体层； aL层的物理厚度为170±20nm，bH层的物理厚度为230±20nm，cL层的物理厚度为460±30nm，dH层的物理厚度为220±20nm，eL层的物理厚度为580±50nm，fH层的物理厚度为220±20nm，gL层的物理厚度为460±30nm，hH层的物理厚度为240±20nm，iA层的物理厚度为140±10nm。
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